| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-13页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·表面强化技术的特点 | 第11页 |
| ·本文的主要研究内容及意义 | 第11-13页 |
| 第2章 实验设备及加热规律介绍 | 第13-22页 |
| ·实验设备简介 | 第13-14页 |
| ·电阻炉加热升温规律 | 第14-22页 |
| 第3章 冷挤压模具及表面强化技术简介 | 第22-34页 |
| ·冷挤压模具简介 | 第22-27页 |
| ·挤压技术的历史与发展 | 第22-23页 |
| ·冷挤压定义及特点 | 第23-26页 |
| ·冷挤压模具材料及选用方法 | 第26-27页 |
| ·常用模具表面强化方法 | 第27-34页 |
| ·镀镍与镀硬铬 | 第28-29页 |
| ·化学热处理 | 第29页 |
| ·气相沉积技术 | 第29-30页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第29-30页 |
| ·物理气相沉积(PVD) | 第30页 |
| ·离子注入表面强化处理 | 第30页 |
| ·激光表面处理 | 第30-31页 |
| ·激光表面熔融处理(ISM) | 第31页 |
| ·激光合金化 | 第31页 |
| ·电火花强化 | 第31页 |
| ·TD法表面强化 | 第31-34页 |
| 第4章 TD法的发展及理论基础 | 第34-45页 |
| ·TD法的发展历史及应用现状 | 第34-37页 |
| ·TD法的发展 | 第34-36页 |
| ·TD法应用现状 | 第36-37页 |
| ·TD法的理论基础 | 第37-42页 |
| ·化学反应热力学 | 第38-39页 |
| ·覆层反应的动力学 | 第39-41页 |
| ·金属表面状况及前处理 | 第41-42页 |
| ·稀土元素的特殊性质及在表面处理中的应用 | 第42-45页 |
| ·催渗作用 | 第42-44页 |
| ·加速渗剂分解 | 第42页 |
| ·加速对活性原子的吸收 | 第42-43页 |
| ·加速扩散 | 第43-44页 |
| ·强化作用 | 第44页 |
| ·净化作用 | 第44-45页 |
| 第5章 TD处理实验方案 | 第45-56页 |
| ·TD处理的基材选择及选材的影响因素 | 第45-48页 |
| ·含碳量的影响 | 第45-46页 |
| ·合金元素的影响 | 第46-47页 |
| ·热处理温度及热处理变形 | 第47页 |
| ·材料强度及韧性 | 第47-48页 |
| ·TD法目前存在的主要问题 | 第48-50页 |
| ·盐浴的寿命 | 第49页 |
| ·坩埚及夹具 | 第49-50页 |
| ·工件变形及表面清理 | 第50页 |
| ·处理设备与工艺方案 | 第50-56页 |
| ·设备及试验材料 | 第50-51页 |
| ·盐浴的选择 | 第51页 |
| ·供钒剂和还原剂的选择 | 第51-52页 |
| ·活化剂的选择 | 第52-53页 |
| ·实验方案 | 第53-56页 |
| ·6W6MO5CR4V表面渗碳 | 第53-54页 |
| ·TD热处理工艺 | 第54-56页 |
| 第6章 覆层测试与分析 | 第56-67页 |
| ·覆层的成分与结构 | 第56-61页 |
| ·渗层显微组织 | 第56-58页 |
| ·试样的制备 | 第56页 |
| ·光学金相显微分析 | 第56-58页 |
| ·电子金相显微分析(SEM) | 第58-59页 |
| ·电子探针分析(EPMA) | 第59-61页 |
| ·覆层的成长规律 | 第61-63页 |
| ·CR12MOV在不同盐浴中所得覆层显微硬度的比较 | 第63-65页 |
| ·C、V元素比对覆层硬度的影响 | 第65-67页 |
| 第7章 结论及展望 | 第67-69页 |
| ·结论 | 第67-68页 |
| ·展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-71页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |