潘宁放电及其制备纳米膜的研究
| 第一章 低温等离子体在薄膜制备中的应用 | 第1-18页 |
| 第一节 等离子体概述 | 第12-13页 |
| ·等离子体的定义及其基本特点 | 第12页 |
| ·等离子体的分类 | 第12-13页 |
| 第二节 低温等离子体溅射沉积技术及其应用 | 第13-16页 |
| ·低温等离子体沉积技术及其应用 | 第13-15页 |
| ·溅射体沉积技术及其应用 | 第15-16页 |
| 第三节 薄膜的形成与生长 | 第16-18页 |
| ·薄膜的生长模式 | 第16-17页 |
| ·溅射薄膜的生长 | 第17-18页 |
| 第二章 实验设计 | 第18-22页 |
| 第一节 潘宁放电概述 | 第18-20页 |
| ·引言 | 第18页 |
| ·PD的研究历史和现状及其应用 | 第18-19页 |
| ·放电原理 | 第19页 |
| ·潘宁放电等离子体(PD)溅射制取薄膜的特点 | 第19-20页 |
| 第二节 潘宁放电装置 | 第20-22页 |
| ·潘宁放电装置 | 第20页 |
| ·放电条件 | 第20-22页 |
| 第三章 潘宁放电等离子体发射光谱诊断 | 第22-30页 |
| 第一节 发射光谱诊断的特点 | 第22页 |
| 第二节 潘宁放电等离子体源的发射光谱分析 | 第22-30页 |
| ·氮气直流辉光放电等离子体发射光谱诊断的特点 | 第22-24页 |
| ·铝电极潘宁放电等离子体源的发射光谱分析 | 第24-27页 |
| ·石墨电极潘宁离子源的 CN自由基发射光谱分析 | 第27-30页 |
| 第四章 潘宁放电制备纳米级氮化物薄膜 | 第30-48页 |
| 第一节 潘宁放电制备纳米级氮化铝薄膜 | 第30-36页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·试验装置及其实验方法 | 第31页 |
| ·氮化铝薄膜形成机理分析 | 第31-33页 |
| ·表面形貌分析 | 第33-34页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第34-35页 |
| ·红外投射光谱分析 | 第35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 第二节 潘宁放电制备纳米级氮化碳薄膜实验结果分析 | 第36-48页 |
| ·氮化碳晶体结构的制备及其现状 | 第36-44页 |
| ·测试及其实验分析 | 第44-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 第五章 管型空心阴极等离子体源离子注入 | 第48-55页 |
| 第一节 引言 | 第48-49页 |
| 第二节 测试及其实验分析 | 第49-54页 |
| ·管型空心阴极等离子体源离子注入装置 | 第49-50页 |
| ·硅片表面上碳氮等离子体离子注入实验 | 第50页 |
| ·表面形貌分析 | 第50-52页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第52-54页 |
| 第三节 小结 | 第54-55页 |
| 第六章 结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-65页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
