| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-15页 |
| 一、文献综述：自发单层分散研究进展 | 第15-39页 |
| ·单层分散体系的制备 | 第15-19页 |
| ·单层分散阈值的实验测定 | 第19-26页 |
| ·XRD相定量分析 | 第19-20页 |
| ·X射线光电子能谱和俄歇电子谱(XPS&AES) | 第20-22页 |
| ·喇曼光谱 | 第22-23页 |
| ·EXAFS方法 | 第23页 |
| ·吸附方法 | 第23-24页 |
| ·穆斯堡尔谱 | 第24-25页 |
| ·离子散射谱(ISS) | 第25-26页 |
| ·单层分散的理论模型及阈值测算 | 第26-29页 |
| ·密置单层模型 | 第26-27页 |
| ·嵌入模型 | 第27-29页 |
| ·负载分子筛体系单层分散阈值计算 | 第29页 |
| ·自发单层分散过程的机理 | 第29-31页 |
| ·单层分散机理 | 第29-31页 |
| ·羟基在表面分散中的作用 | 第31页 |
| ·自发单层分散理论的应用 | 第31-36页 |
| ·改善负载型催化剂的性能 | 第31-32页 |
| ·作为负载型金属催化剂的前体或载体的单层分散体系 | 第32-33页 |
| ·提高载体的热稳定性和制备高比面的催化剂 | 第33-34页 |
| ·利用单层分散原理制备新型吸剂 | 第34-35页 |
| ·在催化剂再生中的应用 | 第35页 |
| ·在制备纳米材料中的应用 | 第35-36页 |
| ·利用单层分散原理研制开发气敏湿敏材料 | 第36页 |
| ·EXAFS测试技术在表面结构分析中的应用 | 第36-39页 |
| 二、氧化铜在二氧化钛表面的单层分散及其结构研究 | 第39-60页 |
| ·前言 | 第39-40页 |
| ·样品制备 | 第40-41页 |
| ·二氧化钛载体的制备 | 第40-41页 |
| ·A、B系列负载样品的制备 | 第41页 |
| ·C系列负载样品的制 | 第41页 |
| ·样品表征 | 第41-42页 |
| ·样品XRD表征 | 第41页 |
| ·XPS表征 | 第41-42页 |
| ·EXAFS表征 | 第42页 |
| ·温度程序还原实验(TPR) | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-58页 |
| ·TiO_2载体 | 第42-43页 |
| ·A系列样品 | 第43-51页 |
| ·XPS | 第43-44页 |
| ·TPR | 第44-45页 |
| ·EXAFS | 第45-50页 |
| ·结论 | 第50-51页 |
| ·B系列样品 | 第51-55页 |
| ·XPS | 第51页 |
| ·TPR | 第51-53页 |
| ·EXAFS | 第53-55页 |
| ·结论 | 第55页 |
| ·C系列样品 | 第55-58页 |
| ·XRD | 第56-57页 |
| ·载体的XRD | 第56-57页 |
| ·样品的XRD | 第57页 |
| ·EXAFS | 第57-58页 |
| ·本章总结 | 第58-60页 |
| 三、氧化钴在二氧化钛表面的单层分散及结构研究 | 第60-68页 |
| ·引言 | 第60-61页 |
| ·样品制备 | 第61页 |
| ·二氧化钛载体的制备 | 第61页 |
| ·负载样品的制备 | 第61页 |
| ·样品表征 | 第61-62页 |
| ·XRD表征 | 第61-62页 |
| ·XPS表征 | 第62页 |
| ·EXAFS表征 | 第62页 |
| ·结果与讨论 | 第62-67页 |
| ·XRD | 第62-64页 |
| ·XPS实验结果 | 第64-65页 |
| ·EXAFS | 第65-67页 |
| ·结论 | 第67-68页 |
| 四、氧化钻在γ—Al_2O_3表面的单层分散及结构研究 | 第68-75页 |
| ·引言 | 第68-69页 |
| ·样品的制备 | 第69页 |
| ·样品表征 | 第69-70页 |
| ·XRD表征 | 第69页 |
| ·XPS表征 | 第69页 |
| ·EXAFS表征 | 第69-70页 |
| ·结果与讨论 | 第70-73页 |
| ·XPS实验结果讨论 | 第70-71页 |
| ·XRD | 第71-72页 |
| ·EXAFS实验 | 第72-73页 |
| ·结论 | 第73-75页 |
| 五、氧化钼在二氧化钛表面的单层分散及结构研究 | 第75-86页 |
| ·引言 | 第75-76页 |
| ·样品制备 | 第76页 |
| ·样品表征 | 第76-77页 |
| ·样品的XPS表征 | 第76页 |
| ·EXAFS表征 | 第76-77页 |
| ·结果与讨论 | 第77-85页 |
| ·XPS | 第77-78页 |
| ·EXAFS | 第78-85页 |
| ·小结 | 第85页 |
| ·结论 | 第85-86页 |
| 六、氧化钼在α-氧化铝表面的单层分散及结构研究 | 第86-96页 |
| ·引言 | 第86-87页 |
| ·样品制备 | 第87页 |
| ·样品表征 | 第87页 |
| ·XPS表征 | 第87页 |
| ·EXAFS表征 | 第87页 |
| ·结果与讨论 | 第87-94页 |
| ·XPS | 第88页 |
| ·EXAFS | 第88-94页 |
| ·结论 | 第94-96页 |
| 七、全文总结 | 第96-98页 |
| ·研究工作总结 | 第96-97页 |
| ·氧化铜、二氧化钛分散体系 | 第96页 |
| ·氧化钴分散体系 | 第96-97页 |
| ·氧化钼分散体系 | 第97页 |
| ·研究工作创新点 | 第97-98页 |
| 参考文献 | 第98-113页 |
| 附录1 | 第113-121页 |
| 致谢 | 第121-122页 |
| 在读期间发表的学术论文 | 第122页 |