电极表面化学修饰涂层的性能研究
| 1 绪论 | 第1-13页 |
| ·神经元传感器的发展现状 | 第7页 |
| ·导电高分子的研究现状及发展趋势 | 第7-8页 |
| ·聚吡咯的制备 | 第8-9页 |
| ·合成机理 | 第8-9页 |
| ·导电机理 | 第9页 |
| ·聚吡咯纳米线(管)的研究进展 | 第9-12页 |
| ·模板法 | 第10-11页 |
| ·非模板法 | 第11-12页 |
| ·本文所做的工作 | 第12-13页 |
| 2 导电聚吡咯的线性扫描伏安曲线及接触角研究 | 第13-23页 |
| ·线性扫描伏安法(LSV) | 第14-16页 |
| ·线性扫描伏安法原理 | 第14-15页 |
| ·线性扫描伏安法实验 | 第15-16页 |
| ·导电聚吡咯膜的接触角研究 | 第16-22页 |
| ·不同掺杂剂制得的聚吡咯膜的接触角研究 | 第17-18页 |
| ·不同聚合时间制得的聚吡咯膜的接触角研究 | 第18-19页 |
| ·不同聚合电位制得的聚吡咯膜的接触角研究 | 第19-20页 |
| ·不同单体浓度制得的聚吡咯膜的接触角研究 | 第20-21页 |
| ·不同掺杂剂浓度制得的聚吡咯膜的接触角研究 | 第21-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 3.铝／三氧化二铝模板聚合 | 第23-32页 |
| ·铝／三氧化二铝模板的制备 | 第23-24页 |
| ·使用铝／三氧化二铝模板进行聚合 | 第24-31页 |
| ·不同聚合时间的影响 | 第25-27页 |
| ·不同聚合电位的影响 | 第27-28页 |
| ·不同单体浓度的影响 | 第28-29页 |
| ·电极正反面聚合情况比较 | 第29页 |
| ·纯铝做电极所得的形貌 | 第29-30页 |
| ·所得形貌的能谱分析 | 第30-31页 |
| ·微触手形貌的形成机理探讨 | 第31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 4 非模板法制备具有特殊结构的聚吡咯膜 | 第32-53页 |
| ·较高电位下聚合 | 第32-33页 |
| ·不同聚合时间的影响 | 第33-44页 |
| ·不同聚合时间的影响(一) | 第33-39页 |
| ·扫描电镜(SEM)测试 | 第33-35页 |
| ·电化学性能测试 | 第35-39页 |
| ·不同聚合时间的影响(二) | 第39-44页 |
| ·扫描电镜(SEM)测试 | 第39-41页 |
| ·电化学性能测试 | 第41-44页 |
| ·不同掺杂剂浓度的影响 | 第44-48页 |
| ·扫描电镜(GEM)测试 | 第44-45页 |
| ·电化学性能测试 | 第45-48页 |
| ·0.7V电位下聚合 | 第48-51页 |
| ·扫描电镜(SEM)测试 | 第48-49页 |
| ·电化学性能测试 | 第49-51页 |
| ·微触手形貌的形成机理探讨 | 第51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 5.结论 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
