| 1 绪论 | 第1-21页 |
| ·SiC 的合成、特性与应用 | 第9-11页 |
| ·碳化硅合成炉及其特点 | 第11-14页 |
| ·国内外碳化硅冶炼控制研究现状及展望 | 第14-17页 |
| ·单片机的应用与发展 | 第17页 |
| ·国内外生产信息管理软件发展现状 | 第17-18页 |
| ·碳化硅合成炉特点及自动控制要求 | 第18页 |
| ·课题背景及意义 | 第18-19页 |
| ·技术路线 | 第19页 |
| ·本论文的主要工作 | 第19-21页 |
| 2 自动控制系统理论基础 | 第21-25页 |
| ·自动控制系统基本概念及其基本要求 | 第21页 |
| ·闭环控制系统基本概念 | 第21-22页 |
| ·自动控制系统的设计 | 第22-24页 |
| ·碳化硅合成炉自动控制系统的任务 | 第24页 |
| 本章小结 | 第24-25页 |
| 3 碳化硅合成炉功率、温度函数的确定 | 第25-32页 |
| ·恒功率供电制度 | 第25-26页 |
| ·碳化硅合成炉供电回路功率分布函数确定 | 第26-28页 |
| ·炉内温度函数 | 第28-31页 |
| 本章小结 | 第31-32页 |
| 4 碳化硅合成炉自动控制系统硬件设计 | 第32-51页 |
| ·碳化硅冶合成自动控制系统下位机功能分析 | 第32页 |
| ·上、下位机结构的控制系统 | 第32-33页 |
| ·下位机（单片机系统）硬件设计原则 | 第33-34页 |
| ·下位机整体结构 | 第34页 |
| ·主要元件选型 | 第34-36页 |
| ·单片机的选型 | 第34-35页 |
| ·电流传感器选型 | 第35页 |
| ·电压传感器选型 | 第35页 |
| ·模数转换器（ADC）选型 | 第35页 |
| ·并行接口扩展器件选型 | 第35-36页 |
| ·放大器选型 | 第36页 |
| ·串口通信电平转换芯片选型 | 第36页 |
| ·硬件主要模块设计及接口技术 | 第36-46页 |
| ·数据采集模块的设计及接口技术 | 第36-38页 |
| ·显示模块的设计及接口技术 | 第38-41页 |
| ·与上位机通讯模块设计及接口技术 | 第41-45页 |
| ·键盘连接及消抖技术 | 第45-46页 |
| ·功率控制电路 | 第46页 |
| ·EDA 软件简介及原理图、PCB 图的产生 | 第46-47页 |
| 本章小结 | 第47-51页 |
| 5 系统的软件实现 | 第51-63页 |
| ·软件功能介绍 | 第51-52页 |
| ·下位机软件功能介绍 | 第51页 |
| ·上位机软件功能介绍 | 第51-52页 |
| ·软件选用的语言介绍 | 第52-54页 |
| ·下位机所选用的汇编语言 | 第52-53页 |
| ·上位机所选用的Visual Basic 和SQL 语言 | 第53-54页 |
| ·单片机系统（下位机）软件设计 | 第54-56页 |
| ·程序模块划分 | 第54-55页 |
| ·软件抗干扰技术 | 第55-56页 |
| ·所使用的仿真器和编程器简介 | 第56页 |
| ·上位机软件设计 | 第56-62页 |
| ·数据库的设计 | 第56-57页 |
| ·程序模块划分 | 第57-62页 |
| 本章小结 | 第62-63页 |
| 6 系统应用与改进 | 第63-70页 |
| ·系统应用 | 第63-64页 |
| ·系统的改进 | 第64-69页 |
| ·数学模型的优化 | 第65-68页 |
| ·实验 | 第68-69页 |
| 本章小结 | 第69-70页 |
| 7 结论 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-75页 |
| 附录 | 第75-89页 |