| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·研究目的和意义 | 第10页 |
| ·常规X射线荧光光谱分析技术的发展历史和局限性 | 第10-11页 |
| ·掠射X射线荧光光谱分析技术发展概述 | 第11-16页 |
| ·掠入射X射线荧光分析(GI-XRF) | 第11-13页 |
| ·掠出射X射线荧光分析(GE-XRF) | 第13-16页 |
| ·掠射X射线荧光光谱分析技术在我国的发展 | 第16-17页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第17-18页 |
| 本章小结 | 第18-19页 |
| 第二章 掠射X射线光谱分析原理 | 第19-38页 |
| ·软X射线波段发射光谱定义 | 第19页 |
| ·原子能级结构理论 | 第19-24页 |
| ·特征X射线光谱和选择定则 | 第19-20页 |
| ·单电子系统的Dirac-Fock方程 | 第20-23页 |
| ·多电子系统的Dirac-Fock方程 | 第23-24页 |
| ·散射和色散原理 | 第24-32页 |
| ·散射截面 | 第24-28页 |
| ·色散和折射率 | 第28-32页 |
| ·罗伦兹互换定理(Reciprocity Theorem) | 第32-33页 |
| ·X射线干涉 | 第33-37页 |
| ·双光束干涉 | 第33-36页 |
| ·多光束干涉 | 第36-37页 |
| 本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 掠出射X射线荧光强度模拟计算 | 第38-53页 |
| ·平稳位相渐进计算方法 | 第38-39页 |
| ·多层膜介质中的点光源电场 | 第39-41页 |
| ·电场表达式 | 第41-47页 |
| ·“点源”在双层样品的上层 | 第42-46页 |
| ·“点源”在双层样品的下层 | 第46-47页 |
| ·荧光强度函数的确定 | 第47-49页 |
| ·几种样品的理论计算结果 | 第49-52页 |
| 本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 掠出射软X射线荧光光谱仪 | 第53-78页 |
| ·基本结构 | 第53-55页 |
| ·光源系统 | 第55-59页 |
| ·常用激发源比较 | 第55-57页 |
| ·X光管的结构和特性 | 第57-59页 |
| ·样品台 | 第59-63页 |
| ·样品台的设计要求及精度分析 | 第60-62页 |
| ·样品台结构 | 第62-63页 |
| ·单色仪系统 | 第63-66页 |
| ·软X射线的色散及色散装置选择 | 第63-64页 |
| ·凹面光栅单色仪 | 第64-66页 |
| ·探测器单元 | 第66-72页 |
| ·常用探测器及其比较 | 第66-69页 |
| ·薄窗流气正比计数管原理及结构特性 | 第69-71页 |
| ·流气控制系统设计及调整步骤 | 第71-72页 |
| ·电子学系统 | 第72-77页 |
| ·概述 | 第72-73页 |
| ·前置放大器及主放大器 | 第73-74页 |
| ·基于计算机的多道脉冲高度分析系统 | 第74-75页 |
| ·多道脉冲高度分析系统软件 | 第75-77页 |
| 本章小结 | 第77-78页 |
| 第五章 掠出射X射线荧光分析薄膜样品实验研究 | 第78-95页 |
| ·实验准备 | 第78-88页 |
| ·单色仪的调整和标校 | 第78-84页 |
| ·探测器和MCA的标校 | 第84-87页 |
| ·样品的制备及分析 | 第87-88页 |
| ·同步辐射X射线荧光分析 | 第88-89页 |
| ·同步辐射X射线荧光分析特点 | 第88页 |
| ·北京同步辐射荧光分析试验站 | 第88-89页 |
| ·实验结果及讨论 | 第89-94页 |
| ·实验结果 | 第89-92页 |
| ·讨论 | 第92-94页 |
| 本章小结 | 第94-95页 |
| 第六章 总结 | 第95-97页 |
| ·本文的主要成果 | 第95-96页 |
| ·本文工作的创新点 | 第96页 |
| ·问题和展望 | 第96-97页 |
| 参考文献 | 第97-104页 |
| 在读期间发表论文情况 | 第104-105页 |
| 在读期间获奖及申请专利情况 | 第105-106页 |
| Acknowledgements | 第106-107页 |
| 附录A | 第107-108页 |