| 第一章 绪论 | 第1-24页 |
| 1．1、 人类与显示技术 | 第8页 |
| 1．2、 OLED的发展历程 | 第8-11页 |
| 1．3、 有机电致发光结构 | 第11-15页 |
| 1．3．1 有机电致发光器件的基本结构 | 第11-14页 |
| 1．3．1．1、 单层器件结构 | 第11-12页 |
| 1．3．1．2、 单异质结结构（SingleHetero，SH） | 第12页 |
| 1．3．1．3、 双异质结结构（DoubleHetero） | 第12-13页 |
| 1．3．1．3、 多层有机EL器件结构 | 第13-14页 |
| 1．3．2、 有机电致发光显示材料 | 第14-15页 |
| 1．3．2．1、 阳极材料（空穴注入材料）： | 第14页 |
| 1．3．2．2、 有机材料 | 第14-15页 |
| 1．4、 有机电致发光机理 | 第15-17页 |
| 1．5、 彩色方案 | 第17-24页 |
| 1．5．1、 R、G、B三象素并排式 | 第17-18页 |
| 1．5．2、 白光显示器上加滤光器 | 第18页 |
| 1．5．3、 蓝色降频转换型OLED | 第18-20页 |
| 1．5．4、 微腔过滤型OLED | 第20页 |
| 1．5．5、 颜色可调的OLED | 第20-21页 |
| 1．5．6、 堆栈式结构的OLED | 第21-24页 |
| 第二章 基本理论 | 第24-38页 |
| 2．1、 透明有机电致发光器件 | 第24-27页 |
| 2．2、 六硼化镧（LaB_6）的特性 | 第27-29页 |
| 2．3、 真空蒸发镀膜法 | 第29-32页 |
| 2．3．1、 真空蒸发的特点与蒸发过程 | 第29-30页 |
| 2．3．2、 蒸发源的蒸发特性与膜厚的分布 | 第30-32页 |
| 2．4、 氧化物阴极 | 第32-38页 |
| 2．4．1 氧化物阴极的材料和工艺 | 第32-33页 |
| 2．4．2、 基金属 | 第33-34页 |
| 2．4．3、 分解和激活 | 第34-36页 |
| 2．4．4、 抗气体中毒性能 | 第36-38页 |
| 第三章 利用LaB_6制作透明阴极 | 第38-51页 |
| 3．1、 试验前的准备工作 | 第38-43页 |
| 3．1．1、 石墨坩锅的制作以及清洗 | 第38页 |
| 3．1．2、 钼片的加工及清洗 | 第38-39页 |
| 3．1．3、 掩膜板的制备： | 第39-40页 |
| 3．1．4、 ITO的腐蚀与清洗 | 第40-41页 |
| 3．1．5、 玻璃基板的制备及其清洗 | 第41页 |
| 3．1．6、 LaB_6的制作和清洗： | 第41-42页 |
| 3．1．7、 镍管的制作以及清洗： | 第42-43页 |
| 3．1．8、 氧化物阴极的制作： | 第43页 |
| 3．2、 所用的试验设备 | 第43-44页 |
| 3．3、 利用夹持式LaB_6阴极作为轰击电子源制作LaB_6透明阴极 | 第44-47页 |
| 3．4、 利用氧化物阴极作轰击电子源制作LaB_6透明阴极 | 第47-51页 |
| 第四章 试验结果 | 第51-66页 |
| 4．1、 LaB_6薄膜厚度的测试 | 第51-53页 |
| 4．2、 透明阴极的方块电阻的测试 | 第53-55页 |
| 4．2．1、 方块电阻测试原理： | 第53-54页 |
| 4．2．2、 测试方块电阻的试验步骤： | 第54-55页 |
| 4．3、 透过率的测量 | 第55-62页 |
| 4．3．1、 YAG发光屏光谱测试系统的简介 | 第55-57页 |
| 4．3．2、 操作步骤： | 第57-62页 |
| 4．4、 结果分析 | 第62-66页 |
| 第五章 总结与展望 | 第66-67页 |
| 参考文献： | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 个人简历、在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第70页 |
