| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-6页 |
| 物理量名称及符号表 | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1．1 碳氮晶体的理论预言 | 第9-13页 |
| 1．1．1 β-C_3N_4 | 第9-11页 |
| 1．1．2 其它结构的碳氮晶体 | 第11-13页 |
| 1．2 碳氮晶体的实验合成 | 第13-17页 |
| 1．2．1 化学转化与高温高压合成 | 第13-14页 |
| 1．2．2 物理气相沉积（PVD） | 第14-16页 |
| 1．2．3 化学气相沉积（CVD） | 第16页 |
| 1．2．4 其它方法 | 第16-17页 |
| 1．3 碳氮材料的性能 | 第17-18页 |
| 1．3．1 碳氮材料的力学性能 | 第17页 |
| 1．3．2 碳氮材料的摩擦磨损性能 | 第17-18页 |
| 1．3．3 碳氮材料的光、电及热学性能 | 第18页 |
| 1．4 本研究工作的目的和意义 | 第18-20页 |
| 第2章 碳氮薄膜的制备及性质 | 第20-46页 |
| 2．1 离子束溅射原理及实验方法 | 第20-27页 |
| 2．1．1 离子束及离子源 | 第20-22页 |
| 2．1．2 离子溅射效应 | 第22-23页 |
| 2．1．3 实验参数的确定 | 第23-24页 |
| 2．1．4 实验设备及薄膜制备 | 第24-25页 |
| 2．1．5 理论预测C_3N_4晶体的结构因子计算 | 第25-27页 |
| 2．2 碳氮和氮化钛单层膜的制备及结构表征 | 第27-31页 |
| 2．3 CN_x／TiN_y多层膜的成分及微观结构分析 | 第31-39页 |
| 2．3．1 CN_x/TiN_y多层膜中晶体形貌及电子衍射分析 | 第31-36页 |
| 2．3．2 CN_x/TiN_y多层膜的X射线衍射分析 | 第36-37页 |
| 2．3．3 CN_x/TiN_y多层膜的成分及价键结构分析 | 第37-39页 |
| 2．4 CN_x/FiN_y多层膜中新现象的观察及分析 | 第39-45页 |
| 2．4．1 立方C_3N_4在Ti_2N上的局域外延生长 | 第39-43页 |
| 2．4．2 未知结构晶体的实验观察 | 第43-44页 |
| 2．4．3 电子束照射下的晶体转变过程的观察 | 第44-45页 |
| 2．5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第3章 高温高压合成碳氮化合物的研究 | 第46-60页 |
| 3．1 高温高压下三聚氰胺（C_3H_6N_6）合成碳氮化合物的可能性 | 第46-48页 |
| 3．2 三聚氰胺（C_3H_6N_6）的高温高压实验 | 第48页 |
| 3．3 实验结果及分析 | 第48-59页 |
| 3．3．1 X射线衍射（XRD）分析 | 第48-51页 |
| 3．3．2 红外光谱（FTIR）分析 | 第51-53页 |
| 3．3．3 X射线光电子谱（XPS）分析 | 第53-56页 |
| 3．3．4 荧光光谱分析 | 第56-59页 |
| 3．4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第4章 三聚氰胺热解物的脉冲放电和高速冲击 | 第60-67页 |
| 4．1 碳氮前驱物的制备 | 第60-61页 |
| 4．2 碳氮前驱物的脉冲放电实验 | 第61-64页 |
| 4．3 碳氮前驱物的冲击实验 | 第64-65页 |
| 4．4 碳氮前驱物的光致发光特性 | 第65-66页 |
| 4．5 本章小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-69页 |
| 附录 | 第69-81页 |
| 参考文献 | 第81-86页 |
| 攻读博士期间所发表的论文 | 第86-88页 |
| 致谢 | 第88页 |
