中文摘要 | 第1-4页 |
英文摘要 | 第4-5页 |
图表清单 | 第5-8页 |
第一章 前言 | 第8-32页 |
·超导发展简史 | 第8-11页 |
·高温超导体中的相分离的基本概念及分类 | 第11-15页 |
·高温超导体中相分离研究的发展概况 | 第15-25页 |
·相分离的实验研究进展 | 第15-19页 |
·相分离的理论研究进展 | 第19-25页 |
·本论文的研究意义和目的 | 第25-26页 |
参考文献 | 第26-32页 |
第二章 La_2CuO_4体系的基本知识及实验介绍 | 第32-45页 |
·La_2CuO_4体系晶体结构及其超导电性 | 第32-40页 |
·La_2CuO_4的晶体结构 | 第32-33页 |
·La_2CuO_(4+δ)晶体结构及其超导电性 | 第33-36页 |
·La_(2-x)SrCuO_4晶体结构与超导电性 | 第36-40页 |
·样品制备 | 第40-41页 |
·实验测试手段 | 第41-42页 |
参考文献 | 第42-45页 |
第三章 低氧掺杂的La_2CuO_(4+δ)的磁行为:相分离下限的确定 | 第45-57页 |
·引言 | 第45-46页 |
·样品处理工艺及结构参数的确定 | 第46-48页 |
·低氧掺杂的La_2CuO_(4+δ)样品的磁行为:相分离下限的证实 | 第48-50页 |
·磁测量结果的分析与讨论 | 第50-54页 |
·相分离前样品磁行为分析——弱铁磁拟合 | 第51-53页 |
·相分离后磁测量分析——超导含量的计算 | 第53-54页 |
·小结 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-57页 |
第四章 低铜掺杂对La_2CuO_(4+δ)中的相分离的影响及相关特性研究 | 第57-84页 |
·引言 | 第57-58页 |
·X射线衍射结果及分析 | 第58-60页 |
·磁测量结果分析 | 第60-64页 |
·铜掺杂的影响 | 第61-64页 |
·超导含量计算及分析 | 第64页 |
·XPS测量结果分析 | 第64-69页 |
·电阻和热电势(即温差电势率)测量结果及分析 | 第69-73页 |
·电子显微镜分析 | 第73-80页 |
·室温TEM观察—ab面条纹结构的发现 | 第73-77页 |
·与C方向有关的非公度调制结构的观察 | 第77-80页 |
·小结 | 第80-81页 |
参考文献 | 第81-84页 |
第五章 低锶掺杂对La_2CuO_4中的相分离的影响以及掺杂质的作用的比较 | 第84-91页 |
·引言 | 第84页 |
·La_(2-x)Sr_xCuO_4(x≤0.03)样品的X射线衍射及磁测量结果分析 | 第84-87页 |
·电化学插氧对相分离的影响 | 第87-89页 |
·掺杂质作用的比较——对相分离的一种可能的解释 | 第89-90页 |
·小结 | 第90页 |
参考文献 | 第90-91页 |
第六章 总结 | 第91-93页 |
作者论文题录 | 第93-94页 |
致谢 | 第94-95页 |