无氰碱性镀铜研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-20页 |
| ·铜镀层的性质和用途 | 第8页 |
| ·无氰碱性电镀铜的研究背景 | 第8-9页 |
| ·无氰碱性电镀铜的研究进展 | 第9-14页 |
| ·焦磷酸盐镀铜 | 第9页 |
| ·缩二脲镀铜 | 第9-10页 |
| ·丙三醇镀铜 | 第10页 |
| ·三乙醇胺镀铜 | 第10页 |
| ·柠檬酸盐镀铜 | 第10-11页 |
| ·柠檬酸盐-辅助络合剂镀铜 | 第11-12页 |
| ·HEDP镀铜 | 第12-13页 |
| ·EDTA二钠盐镀铜 | 第13页 |
| ·有机膦酸盐镀铜 | 第13页 |
| ·一价铜镀铜 | 第13-14页 |
| ·乙二胺镀铜 | 第14页 |
| ·无氰碱性镀铜镀种的选择 | 第14-17页 |
| ·柠檬酸盐镀铜的特点 | 第14-15页 |
| ·非柠檬酸系无氰碱性镀铜镀种存在的问题 | 第15页 |
| ·柠檬酸镀铜相对于酸性硫酸铜镀铜的优势 | 第15-17页 |
| ·无氰镀铜的技术难点和解决途径 | 第17-19页 |
| ·铜粉的产生和消除 | 第17-18页 |
| ·无氰镀铜时钢基体上置换铜的避免与消除 | 第18页 |
| ·钢铁基体的在无氰镀铜镀液中的钝化问题 | 第18-19页 |
| ·本课题的主要工作 | 第19-20页 |
| 2 柠檬酸碱性镀铜的电化学原理 | 第20-25页 |
| ·络合物电镀的原理及选择络合物电镀的依据 | 第20-22页 |
| ·文献中柠檬酸镀铜机理的相关报道 | 第22-23页 |
| ·柠檬酸镀液的络合物化学 | 第22-23页 |
| ·碱性条件下柠檬酸镀铜的电极反应 | 第23页 |
| ·本文中的柠檬酸镀铜机理 | 第23-25页 |
| ·碱性条件下柠檬酸铜的相关络合物化学 | 第23-24页 |
| ·电极反应 | 第24-25页 |
| 3 实验部分 | 第25-60页 |
| ·实验药品与仪器 | 第25页 |
| ·主要实验药品 | 第25页 |
| ·主要使用的仪器 | 第25页 |
| ·实验研究方法 | 第25-27页 |
| ·镀液配制方法和基片前处理方法 | 第27页 |
| ·镀液配制方法 | 第27页 |
| ·基片的前处理方法 | 第27页 |
| ·赫尔槽试验 | 第27-57页 |
| ·基础配方的确定 | 第29页 |
| ·彩色镀层的消除 | 第29-36页 |
| ·基础配方的调整及调整的依据 | 第36-37页 |
| ·镀液组分和工艺条件的影响 | 第37-42页 |
| ·辅助络合剂对镀铜的影响 | 第42-46页 |
| ·添加剂实验 | 第46-57页 |
| ·线性伏安曲线的测定 | 第57-60页 |
| ·线性伏安法的原理 | 第57页 |
| ·还原过程的线性伏安曲线 | 第57-59页 |
| ·氧化过程的线性伏安曲线 | 第59-60页 |
| 4 结论 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
