| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-20页 |
| ·本文研究的背景和意义 | 第13-17页 |
| ·CVD 金刚石膜的性能与应用 | 第13-14页 |
| ·CVD 金刚石膜的主要制备方法 | 第14-17页 |
| ·球面金刚石膜研究现状 | 第17-18页 |
| ·国内研究状况 | 第17-18页 |
| ·国外研究状况 | 第18页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第18-20页 |
| 第二章 球面金刚石膜的沉积实验研究 | 第20-33页 |
| ·直流等离子体化学气相沉积金刚石膜制备系统 | 第20-23页 |
| ·主要技术指标 | 第20-21页 |
| ·实验设备组成 | 第21-23页 |
| ·球面金刚石厚膜制备及工艺 | 第23-26页 |
| ·Mo 衬底的预处理 | 第23页 |
| ·等离子体炬阳极环和沉积室的清理 | 第23页 |
| ·放置Mo 衬底和沉积炉抽真空 | 第23-24页 |
| ·气体供给和调整工艺参数 | 第24页 |
| ·金刚石形核及球面金刚石膜沉积过程 | 第24-25页 |
| ·关机取出制备的球面金刚石膜 | 第25-26页 |
| ·工艺参数对直流等离子体化学气相沉积金刚石膜的影响 | 第26-32页 |
| ·衬底的影响 | 第26-28页 |
| ·阳极环的影响 | 第28-29页 |
| ·气体浓度的影响 | 第29-30页 |
| ·真空度的影响 | 第30页 |
| ·衬底温度的影响 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 球面金刚石厚膜分析 | 第33-39页 |
| ·扫描电镜分析 | 第33-34页 |
| ·激光拉曼光谱分析 | 第34-35页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第35-36页 |
| ·厚度均匀性分析 | 第36-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 等离子体喷射球面MO 衬底温度场有限元仿真研究 | 第39-56页 |
| ·计算流体力学软件介绍 | 第39-40页 |
| ·对沉积炉内球面MO 衬底的温度场进行有限元仿真 | 第40-55页 |
| ·计算球面Mo 衬底曲率半径 | 第40页 |
| ·用GAMBIT 对沉积炉进行建模 | 第40-43页 |
| ·利用FLUENT 进行仿真计算 | 第43-47页 |
| ·仿真结果与分析 | 第47-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 LP－30 型等离子体喷射金刚石膜设备改进方案 | 第56-60页 |
| ·起膜自动关机方案 | 第56-57页 |
| ·冷却平台改进方案 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第六章 总结与展望 | 第60-62页 |
| ·本文完成的主要工作 | 第60-61页 |
| ·研究展望工作 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第67页 |
