| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-12页 |
| 第二章 实验方法 | 第12-28页 |
| ·磁控溅射技术介绍及实验装置 | 第12-14页 |
| ·离子束分析方法 | 第14-19页 |
| ·氦的热脱附谱 | 第19-22页 |
| ·X射线衍射 | 第22-23页 |
| ·透射电子显微镜 | 第23-24页 |
| ·原子力显微镜 | 第24-25页 |
| ·正电子湮灭技术 | 第25-28页 |
| 第三章 含氢氦Zr膜的制备及氢对氦行为影响研究 | 第28-41页 |
| ·磁控溅射沉积含氢氦Zr膜 | 第28-32页 |
| ·含氢氦Zr膜样品的性质分析 | 第32-41页 |
| 第四章 ECR辅助磁控溅射方法沉积含氦钛膜 | 第41-57页 |
| ·ECR等离子体简介 | 第41-42页 |
| ·ECR辅助磁控溅射系统简介 | 第42-45页 |
| ·ECR氦等离子体注入 | 第45-47页 |
| ·ECR辅助磁控溅射系统沉积含氦钛膜的制备及性质分析 | 第47-56页 |
| ·ECR辅助磁控溅射系统的改进 | 第56-57页 |
| 第五章 总结与展望 | 第57-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |