基于BDD的抗坏血酸氧化酶传感器的制备与性能研究
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第一章 绪论 | 第10-13页 |
·课题研究的目的和意义 | 第10页 |
·国内外研究现状 | 第10-12页 |
·本文的主要研究工作 | 第12-13页 |
第二章 生物传感器 | 第13-20页 |
·生物传感器简介 | 第13-15页 |
·生物传感器的概念 | 第13页 |
·生物传感器的特点 | 第13-14页 |
·生物传感器的应用 | 第14-15页 |
·酶传感器 | 第15-16页 |
·酶的固定化要求 | 第15-16页 |
·酶的固定化方法 | 第16-18页 |
·共存物质的影响 | 第17页 |
·酶电极的分类 | 第17页 |
·酶的催化特性 | 第17-18页 |
·酶传感器的性能指标 | 第18页 |
·化学修饰电极 | 第18-19页 |
·本章小结 | 第19-20页 |
第三章 掺硼金刚石薄膜电极 | 第20-30页 |
·BDD 薄膜电极的性能 | 第20-21页 |
·热丝 CVD 法制备掺硼金刚石膜简介 | 第21-24页 |
·合成机理 | 第21-23页 |
·HFCVD 沉积过程 | 第23页 |
·金刚石与无序碳的竞争生长过程 | 第23-24页 |
·金刚石的表征 | 第24-26页 |
·SEM 和拉曼光谱 | 第24-25页 |
·BDD 薄膜的氢端基和氧端基结构 | 第25-26页 |
·BDD 电极的电化学性能 | 第26-28页 |
·循环伏安法测试体系 | 第27页 |
·BDD 电极的循环伏安特性曲线 | 第27-28页 |
·掺硼金刚石在电化学领域的应用 | 第28页 |
·电极材料 | 第28页 |
·对有毒的有机化合物的电化学处理 | 第28页 |
·有机物成分的痕量检测 | 第28页 |
·微电容 | 第28页 |
·本章小结 | 第28-30页 |
第四章 共价键合/交联法修饰 BDD 电极 | 第30-36页 |
·BDD 薄膜的氨基化修饰方法 | 第30页 |
·共价键合/交联法制备抗坏血酸氧化酶电极 | 第30-31页 |
·仪器和试剂 | 第30页 |
·电极的预处理 | 第30-31页 |
·氨基修饰 | 第31页 |
·交联法固定酶 | 第31页 |
·测定方法 | 第31页 |
·结果与讨论 | 第31-34页 |
·抗坏血酸检测机理 | 第31页 |
·对掺硼金刚石的氨基修饰 | 第31-33页 |
·抗坏血酸检测的 CV 曲线 | 第33页 |
·pH 值对传感器性能的影响 | 第33-34页 |
·线性范围及检测限 | 第34页 |
·干扰实验 | 第34页 |
·重复性和稳定性 | 第34页 |
·本章小结 | 第34-36页 |
第五章 包埋法修饰 BDD 电极 | 第36-41页 |
·壳聚糖概述 | 第36-38页 |
·壳聚糖简介 | 第36页 |
·壳聚糖溶液的性质 | 第36页 |
·壳聚糖的结构 | 第36-38页 |
·包埋法制备抗坏血酸氧化酶传感器电极 | 第38-39页 |
·仪器和试剂 | 第38页 |
·电极的预处理 | 第38页 |
·制备方法 | 第38页 |
·测定方法 | 第38-39页 |
·结果与讨论 | 第39-40页 |
·抗坏血酸检测的 CV 曲线 | 第39页 |
·壳聚糖浓度对电极响应的影响 | 第39页 |
·pH 值对传感器性能的影响 | 第39-40页 |
·干扰实验 | 第40页 |
·线性范围及检测限 | 第40页 |
·重复性和稳定性 | 第40页 |
·本章小结 | 第40-41页 |
第六章 电化学聚合法修饰 BDD 电极 | 第41-47页 |
·聚邻苯二胺的特性及应用 | 第41-42页 |
·聚邻苯二胺的特性 | 第41页 |
·聚邻苯二胺的聚合机理和结构 | 第41-42页 |
·离子选择性电极的性能特征 | 第42页 |
·电化学聚合方法制备抗坏血酸氧化酶传感器电极 | 第42-43页 |
·仪器和试剂 | 第43页 |
·电极的预处理 | 第43页 |
·制备方法 | 第43页 |
·测定方法 | 第43页 |
·结果与讨论 | 第43-46页 |
·传感器检测原理 | 第43-44页 |
·邻苯二胺的聚合机制 | 第44页 |
·邻苯二胺溶液浓度的选择 | 第44-45页 |
·抗坏血酸检测的循环伏安曲线 | 第45页 |
·pH 值对传感器性能的影响 | 第45页 |
·线性范围及检测限 | 第45-46页 |
·干扰实验 | 第46页 |
·重复性 | 第46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
第七章 全文总结 | 第47-48页 |
参考文献 | 第48-53页 |
发表论文和科研情况说明 | 第53-54页 |
致谢 | 第54-55页 |