| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-20页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·磁控溅射技术 | 第8-14页 |
| ·磁控溅射技术的原理 | 第8-9页 |
| ·磁控溅射技术的发展概述 | 第9-10页 |
| ·磁控溅射离子镀 | 第10-11页 |
| ·闭合场非平衡磁控溅射离子镀 | 第11-12页 |
| ·磁控溅射技术的应用 | 第12页 |
| ·磁控溅射沉积薄膜结构分析 | 第12-14页 |
| ·磁控溅射系统磁场与等离子体 | 第14-16页 |
| ·磁控溅射系统中磁场的分布 | 第14-15页 |
| ·等离子体概述 | 第15-16页 |
| ·氮化铬镀层的性能和研究现状 | 第16-17页 |
| ·氮化铬镀层的性能 | 第16页 |
| ·氮化铬镀层的研究现状 | 第16-17页 |
| ·本文的研究意义和目的 | 第17-18页 |
| ·本文的研究内容及技术路线图 | 第18-20页 |
| 2 试样制备和实验方法 | 第20-28页 |
| ·试样基材及处理 | 第20页 |
| ·镀膜设备 | 第20页 |
| ·CrN_x镀层的制备 | 第20-24页 |
| ·非平衡磁场的实现 | 第20-21页 |
| ·非平衡度实验时试样的放置 | 第21页 |
| ·改变非平衡度时镀膜的工艺 | 第21-22页 |
| ·磁场闭合状态的实现 | 第22页 |
| ·不同闭合状态试样的放置 | 第22-23页 |
| ·不同闭合状态的镀膜工艺 | 第23-24页 |
| ·镀层结构和性能的分析与检测 | 第24-28页 |
| ·镀层组成结构的分析 | 第24页 |
| ·镀层厚度检测 | 第24-26页 |
| ·镀层的摩擦学性能 | 第26-27页 |
| ·镀层硬度的检测 | 第27-28页 |
| 3 磁场的非平衡度对沉积CrN_x镀层的影响 | 第28-39页 |
| ·非平衡度对CrN_x镀层物相结构的影响 | 第28-32页 |
| ·非平衡度对CrN_x镀层组织形貌的影响 | 第32-34页 |
| ·非平衡度对CrN_x镀层表面形貌的影响 | 第32-33页 |
| ·非平衡度对CrN_x镀层断口形貌的影响 | 第33-34页 |
| ·非平衡度对CrN_x镀层性能的影响 | 第34-38页 |
| ·非平衡度对CrN_x镀层厚度的影响 | 第34-36页 |
| ·非平衡度对CrN_x镀层硬度的影响 | 第36-37页 |
| ·非平衡度对CrN_x镀层摩擦学特性的影响 | 第37-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 4 磁场的闭合状态对沉积CrN_x镀层的影响 | 第39-46页 |
| ·闭合状态对CrN_x镀层物相结构的影响 | 第39-41页 |
| ·闭合状态对CrN_x镀层形貌的影响 | 第41-43页 |
| ·闭合状态对CrN_x镀层表面形貌的影响 | 第41页 |
| ·闭合状态对CrN_x镀层断口形貌的影响 | 第41-43页 |
| ·闭合状态对CrN_x镀层性能的影响 | 第43-45页 |
| ·闭合状态对CrN_x镀层厚度的影响 | 第43-44页 |
| ·闭合状态对CrN_x镀层硬度的影响 | 第44页 |
| ·非平衡度对CrN_x镀层摩擦学特性的影响 | 第44-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 5 磁场非平衡度和闭合状态对沉积CrN_x镀层影响的机理分析 | 第46-52页 |
| ·带电离子在电磁场中的运动 | 第46-47页 |
| ·磁场的非平衡度的改变对电子运动的影响 | 第47-49页 |
| ·磁场的闭合状态对电子运动的影响 | 第49-50页 |
| ·磁场非平衡度和闭合状态对沉积CrN_x镀层影响的比较与综合 | 第50-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 6 结论 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第58页 |