| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-18页 |
| 第一章 绪论 | 第18-34页 |
| ·前言 | 第18-24页 |
| ·铌钽的性质 | 第18-19页 |
| ·铌钽的应用 | 第19-22页 |
| ·在钢铁工业中的应用 | 第19页 |
| ·在电子工业中的应用 | 第19-20页 |
| ·在航天航空工业中的应用 | 第20-21页 |
| ·在硬质合金中的应用 | 第21页 |
| ·在石油化学工业中的应用 | 第21页 |
| ·在医学中的应用 | 第21-22页 |
| ·铌钽资源的概况 | 第22-24页 |
| ·国外铌钽资源的概况 | 第22-23页 |
| ·国内铌钽资源的概况 | 第23-24页 |
| ·铌钽的提取与分离 | 第24-31页 |
| ·铌钽的提取冶金 | 第24-28页 |
| ·碱分解法 | 第25-26页 |
| ·酸分解法 | 第26页 |
| ·氯化法 | 第26-27页 |
| ·亚熔盐法 | 第27-28页 |
| ·铌钽的分离技术 | 第28-31页 |
| ·分步结晶法 | 第28-29页 |
| ·分步蒸馏法 | 第29页 |
| ·离子交换法 | 第29页 |
| ·选择还原法 | 第29-30页 |
| ·液液萃取法 | 第30-31页 |
| ·本论文研究意义及内容 | 第31-34页 |
| ·论文背景 | 第31-32页 |
| ·论文意义 | 第32页 |
| ·论文内容 | 第32-34页 |
| 第二章 铌、钽分析方法的建立 | 第34-44页 |
| ·前言 | 第34-35页 |
| ·实验部分 | 第35-37页 |
| ·实验原料与仪器 | 第35-36页 |
| ·实验方法 | 第36-37页 |
| ·溶液的配制 | 第36页 |
| ·MSF模型的建立 | 第36-37页 |
| ·分析方法 | 第37页 |
| ·实验结果与讨论 | 第37-43页 |
| ·分析谱线的选择 | 第37-40页 |
| ·光谱干扰的校正 | 第40-41页 |
| ·MSF模型的建立要求 | 第40-41页 |
| ·MSF法校正光谱图的效果 | 第41页 |
| ·方法的准确度、精密度以及检出限 | 第41-42页 |
| ·合成样品的分析结果 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第三章 低浓度氢氟酸体系中MIBK萃取分离铌钽工艺研究 | 第44-58页 |
| ·前言 | 第44页 |
| ·实验部分 | 第44-45页 |
| ·实验原料与仪器 | 第44-45页 |
| ·实验方法 | 第45页 |
| ·原料的消解 | 第45页 |
| ·萃取与反萃操作 | 第45页 |
| ·分析方法 | 第45页 |
| ·萃取相关参数计算 | 第45-46页 |
| ·分配比(D) | 第46页 |
| ·萃取率(E%) | 第46页 |
| ·分离系数(β_(A/B)) | 第46页 |
| ·实验结果与讨论 | 第46-54页 |
| ·接触时间的影响 | 第47页 |
| ·萃取相比(R=O/A)的影响 | 第47-48页 |
| ·氢氟酸浓度的影响 | 第48-50页 |
| ·钽铌浓度的影响 | 第50-51页 |
| ·钽铌质量比的影响 | 第51-52页 |
| ·硫酸浓度的影响 | 第52-53页 |
| ·温度的影响 | 第53-54页 |
| ·杂质萃取行为 | 第54-56页 |
| ·实验方法 | 第54页 |
| ·分析方法 | 第54-55页 |
| ·实验结果 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 含钽有机相的酸洗净化工艺研究 | 第58-66页 |
| ·前言 | 第58页 |
| ·实验部分 | 第58-59页 |
| ·实验原料与仪器 | 第58-59页 |
| ·实验方法 | 第59页 |
| ·分析方法 | 第59页 |
| ·实验结果与讨论 | 第59-65页 |
| ·纯水洗涤结果 | 第59-60页 |
| ·1mol·L~(-1)硫酸酸洗结果 | 第60-61页 |
| ·2mol·L~(-1)硫酸酸洗结果 | 第61-62页 |
| ·3mol·L~(-1)硫酸酸洗结果 | 第62-63页 |
| ·4mol·L~(-1)硫酸酸洗结果 | 第63-65页 |
| ·酸洗除铌效果检验 | 第65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第五章 萃余液结晶法除杂净化工艺研究 | 第66-76页 |
| ·前言 | 第66页 |
| ·实验部分 | 第66-68页 |
| ·实验原料与仪器 | 第66-67页 |
| ·实验方法 | 第67页 |
| ·实验流程 | 第67-68页 |
| ·分析方法 | 第68页 |
| ·实验结果与讨论 | 第68-75页 |
| ·沉淀中各杂质的含量 | 第68-69页 |
| ·一次晶体中各杂质的含量 | 第69-70页 |
| ·二次晶体中各杂质的含量 | 第70-71页 |
| ·沉淀HNO_3浸洗后改进结果 | 第71-72页 |
| ·浸洗时间的影响 | 第71-72页 |
| ·HNO_3浓度的影响 | 第72页 |
| ·结晶母液pH值调节后改进结果 | 第72-75页 |
| ·一次结晶母液调节pH的结果 | 第73-74页 |
| ·二次结晶母液调节pH的结果 | 第74-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 第六章 萃取机理探讨 | 第76-84页 |
| ·前言 | 第76页 |
| ·实验部分 | 第76-77页 |
| ·实验原料与仪器 | 第76-77页 |
| ·实验方法 | 第77页 |
| ·分析方法 | 第77页 |
| ·电感耦合等离子体-原子发射光谱 | 第77页 |
| ·傅立叶红外光谱 | 第77页 |
| ·核磁共振波谱 | 第77页 |
| ·实验结果与讨论 | 第77-83页 |
| ·萃合物组成的确定 | 第78-79页 |
| ·斜率法 | 第78-79页 |
| ·饱和容量法 | 第79页 |
| ·MIBK萃取前后的红外光谱分析 | 第79-81页 |
| ·MIBK萃取前后的核磁共振波谱分析 | 第81-83页 |
| ·本章小结 | 第83-84页 |
| 第七章 结论与展望 | 第84-86页 |
| ·结论 | 第84页 |
| ·展望 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-90页 |
| 致谢 | 第90-92页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第92-94页 |
| 作者和导师简介 | 第94页 |