| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第1章引言 | 第8-17页 |
| 1.1分子铁电发展历程 | 第8-13页 |
| 1.2有机无机杂化化合物 | 第13-15页 |
| 1.2.1有机无机杂化材料的研究背景 | 第13-15页 |
| 1.3研究内容 | 第15-17页 |
| 第2章实验试剂及仪器部分 | 第17-18页 |
| 2.1实验药品 | 第17页 |
| 2.2实验仪器 | 第17-18页 |
| 第3章杂环高氯酸盐晶体的可逆相变及铁电性质研究 | 第18-34页 |
| 3.1引言 | 第18页 |
| 3.2化合物的合成 | 第18-19页 |
| 3.2.1化合物[C8N4H21（ClO4）]（1）的合成 | 第18页 |
| 3.2.2化合物[C8N4H22（ClO4）2]（2）的合成 | 第18-19页 |
| 3.2.3化合物[C8N4H23（ClO4）3]（3）的合成 | 第19页 |
| 3.2.4化合物[C8N4H24（ClO4）4]（4）的合成 | 第19页 |
| 3.2.5仪器表征 | 第19页 |
| 3.3结果与讨论 | 第19-33页 |
| 3.3.1单晶X射线衍射分析 | 第19-26页 |
| 3.3.2红外表征和PXRD | 第26-27页 |
| 3.3.3差示扫描量热分析 | 第27-29页 |
| 3.3.4晶体的介电分析 | 第29-32页 |
| 3.3.5SHG测试 | 第32-33页 |
| 3.4结论 | 第33-34页 |
| 第4章杂环高铼酸盐晶体的相变及介电异常 | 第34-43页 |
| 4.1引言 | 第34页 |
| 4.2化合物的合成 | 第34-35页 |
| 4.2.1[C8N4H22（ReO4）2]（5）的合成 | 第34页 |
| 4.2.2[C8N4H23（ReO4）3]（6）的合成 | 第34-35页 |
| 4.2.3仪器表征 | 第35页 |
| 4.3结果与讨论 | 第35-42页 |
| 4.3.1晶体的红外表征和PXRD | 第35-36页 |
| 4.3.2晶体的结构表征 | 第36-38页 |
| 4.3.3晶体的DSC分析 | 第38-39页 |
| 4.3.4晶体的介电分析 | 第39-41页 |
| 4.3.5晶体5的SHG表征 | 第41-42页 |
| 4.4总结与展望 | 第42-43页 |
| 第5章杂环四氟硼酸盐晶体的合成及其介电性质 | 第43-54页 |
| 5.1引言 | 第43页 |
| 5.2实验部分 | 第43-44页 |
| 5.2.1[C8N4H23O（BF4）]（7）的合成 | 第43页 |
| 5.2.2[C8N4H22（BF4）2]（8）的合成 | 第43-44页 |
| 5.2.3[C8N4H23（BF4）3]（9）的合成 | 第44页 |
| 5.2.4仪器表征 | 第44页 |
| 5.3结果与讨论 | 第44-53页 |
| 5.3.1红外和PXRD分析 | 第44-46页 |
| 5.3.2晶体结构分析 | 第46-49页 |
| 5.3.3差示扫描量热分析 | 第49-50页 |
| 5.3.4介电分析 | 第50-52页 |
| 5.3.5二阶非线性光学分析 | 第52-53页 |
| 5.4结论 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-63页 |
| 附录 | 第63-76页 |
| 攻读硕士期间的研究成果 | 第76页 |
