智能窗用钨掺杂VO2薄膜的可控制备与性能研究
| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-30页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 二氧化钒的金属-半导体相转变 | 第11-19页 |
| 1.2.1 二氧化钒相变的晶体结构特点 | 第12-13页 |
| 1.2.2 二氧化钒相变的能带结构变化 | 第13-14页 |
| 1.2.3 电学性质 | 第14-17页 |
| 1.2.4 光学性质 | 第17-19页 |
| 1.3 智能窗用VO_2基热致变色薄膜的研究进展 | 第19-24页 |
| 1.4 二氧化钒薄膜的制备 | 第24-29页 |
| 1.4.1 溶胶-凝胶法制备VO_2薄膜 | 第25-27页 |
| 1.4.2 掺杂降低VO_2薄膜的相变温度 | 第27-29页 |
| 1.5 总体研究方案、研究内容和研究意义 | 第29-30页 |
| 第2章 VO_2薄膜的制备与性能表征 | 第30-37页 |
| 2.1 实验主要材料和仪器 | 第30-31页 |
| 2.2 实验样品的制备 | 第31-34页 |
| 2.2.1 高能球磨技术处理V2O5/W粉末 | 第31-32页 |
| 2.2.2 掺钨五氧化二钒溶胶的制备 | 第32-33页 |
| 2.2.3 薄膜基片的选择与清洗 | 第33页 |
| 2.2.4 氧化钒薄膜的制备 | 第33-34页 |
| 2.2.5 热处理工艺 | 第34页 |
| 2.3 薄膜性能表征与测试方法 | 第34-36页 |
| 2.3.1 UV-Vis-NIR光谱仪 | 第34-35页 |
| 2.3.2 X射线衍射仪(XRD) | 第35页 |
| 2.3.3 显微共焦激光拉曼光谱仪 | 第35页 |
| 2.3.4 场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第35-36页 |
| 2.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第3章 钨掺杂VO_2薄膜的性能及结构分析 | 第37-54页 |
| 3.1 V_2O_5/W粉末的物相及形貌分析 | 第37-40页 |
| 3.2 钨掺杂VO_2薄膜的结构表征和性能分析 | 第40-52页 |
| 3.2.1 样品的光学性能分析 | 第40-43页 |
| 3.2.2 热致变色性能分析 | 第43-46页 |
| 3.2.3 物相表征 | 第46-48页 |
| 3.2.4 表面形貌分析(FESEM) | 第48-52页 |
| 3.3 本章小结 | 第52-54页 |
| 第4章 改变氨热还原参数对VO_2薄膜的影响 | 第54-65页 |
| 4.1 引言 | 第54-55页 |
| 4.2 样品制备 | 第55-56页 |
| 4.3 结构表征与性能分析 | 第56-63页 |
| 4.3.1 样品的光学性能分析 | 第56-58页 |
| 4.3.2 样品的热致变色性能分析 | 第58-60页 |
| 4.3.3 样品的物相分析 | 第60-62页 |
| 4.3.4 样品的微观形貌分析 | 第62-63页 |
| 4.4 本章小结 | 第63-65页 |
| 第5章 总结和展望 | 第65-67页 |
| 5.1 本文主要的结果和创新点 | 第65页 |
| 5.2 展望 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 研究生期间发表的学术论文 | 第74页 |
