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金属氧化物基RRAM的阻变机理与仿真研究

中文摘要第3-4页
英文摘要第4页
1 绪论第7-15页
    1.1 半导体存储器第7-10页
        1.1.1 存储器基本概念及应用第7-8页
        1.1.2 易失性存储器第8-9页
        1.1.3 非易失性存储器第9-10页
    1.2 新型非易失性存储器的研究现状第10-13页
        1.2.1 铁电随机存储器第10-11页
        1.2.2 相变随机存储器第11-12页
        1.2.3 磁阻随机存储器第12页
        1.2.4 阻变随机存储器第12-13页
    1.3 本论文的研究内容及思路第13-15页
2 阻变存储器概述第15-24页
    2.1 阻变存储器材料体系第15-16页
    2.2 阻变存储器中的漏电流问题及其解决途径第16-20页
    2.3 阻变存储器的阻变机制第20-24页
        2.3.1 界面势垒机制第20-21页
        2.3.2 金属导电丝机制第21-22页
        2.3.3 氧空位导电丝机制第22-24页
3 二元金属氧化物器件中的多极阻变现象第24-33页
    3.1 器件制备与测试第24-25页
    3.2 双极性阻变特性性能表征与分析第25-26页
        3.2.1 双极性阻变电学效应第25-26页
        3.2.2 多值存储效应第26页
    3.3 互补型阻变特性性能表征与分析第26-28页
    3.4 寄生阻变特性性能表征与分析第28-31页
    3.5 多极阻变的逆转化及总结第31-33页
4 基于COMSOL的RRAM建模与仿真第33-45页
    4.1 RRAM电-热耦合模型第33-36页
        4.1.1 电-热耦合模型方程第33-34页
        4.1.2 电-热耦合建模步骤第34-36页
    4.2 器件在不同偏置下的过程仿真第36-42页
        4.2.1 不同正向偏置电压下的过程仿真第36-39页
        4.2.2 不同反向偏置电压下的过程仿真第39-42页
    4.3 器件BRS特性仿真第42-43页
    4.4 器件CRS特性仿真第43页
    4.5 小结第43-45页
5 总结与展望第45-48页
    5.1 总结第45-47页
    5.2 展望第47-48页
致谢第48-49页
参考文献第49-53页
附录第53页
    A.作者在攻读学位期间发表的论文目录第53页
    B.作者在攻读学位期间取得的科研成果目录第53页

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