摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5页 |
第一章 绪论 | 第12-16页 |
1.1 课题研究背景及意义 | 第12-13页 |
1.2 本文主要研究内容和技术路线 | 第13-16页 |
1.2.1 本文主要研究内容 | 第13-15页 |
1.2.2 技术路线 | 第15-16页 |
第二章 文献综述 | 第16-26页 |
2.1 类石墨相氮化碳(g-C_3N_4) | 第16-21页 |
2.1.1 g-C_3N_4的性质及相关概述 | 第16-18页 |
2.1.2 g-C_3N_4膜电极的制备方法 | 第18-19页 |
2.1.2.1 泡沫模板法 | 第18页 |
2.1.2.2 溶胶凝胶法 | 第18页 |
2.1.2.3 化学剥离法 | 第18页 |
2.1.2.4 化学沉积法 | 第18页 |
2.1.2.5 旋转涂布法 | 第18-19页 |
2.1.3 提高g-C_3N_4光电催化性能的方法 | 第19-21页 |
2.1.3.1 贵金属沉积 | 第19页 |
2.1.3.2 半导体复合 | 第19-20页 |
2.1.3.3 金属元素掺杂 | 第20页 |
2.1.3.4 非金属元素掺杂 | 第20-21页 |
2.1.3.5 形貌调控 | 第21页 |
2.2 银氰络合物 | 第21-23页 |
2.2.1 银氰络合物的来源与危害 | 第21-22页 |
2.2.2 氰化物的处理方法 | 第22-23页 |
2.2.2.1 物化法 | 第22页 |
2.2.2.2 化学法 | 第22-23页 |
2.2.2.3 生物法 | 第23页 |
2.2.2.4 光电催化氧化法 | 第23页 |
2.3 文献小结 | 第23-26页 |
第三章 H_2O_2强化g-C_3N_4可见光电催化降解亚甲基蓝的研究 | 第26-38页 |
3.1 引言 | 第26页 |
3.2 实验部分 | 第26-28页 |
3.2.1 试剂与仪器 | 第26-27页 |
3.2.2 实验方法 | 第27-28页 |
3.3 结果与讨论 | 第28-36页 |
3.3.1 g-C_3N_4薄膜电极的物理化学性能表征 | 第28-30页 |
3.3.2 g-C_3N_4/H_2O_2体系降解亚甲基蓝 | 第30-31页 |
3.3.3 H_2O_2浓度对降解效果的影响 | 第31-32页 |
3.3.4 vis-g-C_3N_4/H_2O_2催化反应机理研究 | 第32-34页 |
3.3.5 外加电压对g-C_3N_4/H_2O_2体系降解效果的影响 | 第34-35页 |
3.3.6 初始pH值对降解效果的影响 | 第35页 |
3.3.7 电极的稳定性分析 | 第35-36页 |
3.4 本章小结 | 第36-38页 |
第四章 Ag掺杂g-C_3N_4薄膜电极的制备及光电性能研究 | 第38-52页 |
4.1 引言 | 第38页 |
4.2 实验部分 | 第38-39页 |
4.2.1 试剂与仪器 | 第38-39页 |
4.2.2 实验方法 | 第39页 |
4.3 结果与讨论 | 第39-50页 |
4.3.1 SEM-EDX表面形貌分析 | 第39-40页 |
4.3.2 HRTEM-STEM分析 | 第40-42页 |
4.3.3 XRD分析 | 第42-43页 |
4.3.4 FT-IR分析 | 第43-44页 |
4.3.5 紫外可见漫反射分析 | 第44-45页 |
4.3.6 XPS分析 | 第45-46页 |
4.3.7 Ag/g-C_3N_4的光电化学特性 | 第46-48页 |
4.3.8 机理分析 | 第48-50页 |
4.4 本章小结 | 第50-52页 |
第五章 Na_2WO_4掺杂g-C_3N_4薄膜电极的制备及光电性能研究 | 第52-62页 |
5.1 引言 | 第52页 |
5.2 实验材料与方法 | 第52-53页 |
5.2.1 试剂与仪器 | 第52-53页 |
5.2.2 实验方法 | 第53页 |
5.3 结果与讨论 | 第53-62页 |
5.3.1 SEM-EDX表面形貌分析 | 第53-56页 |
5.3.2 XRD分析 | 第56页 |
5.3.3 FT-IR分析 | 第56-57页 |
5.3.4 紫外可见漫反射分析 | 第57-58页 |
5.3.5 XPS分析 | 第58-59页 |
5.3.6 W/g-C_3N_4的光电化学特性 | 第59-61页 |
5.3.7 机理分析 | 第61-62页 |
5.4 本章小结 | 第62页 |
第六章 H_2O_2强化g-C_3N_4薄膜电极降解银氰络合物同时回收Ag研究 | 第62-81页 |
6.1 引言 | 第62-63页 |
6.2 实验部分 | 第63-65页 |
6.2.1 试剂与仪器 | 第63-64页 |
6.2.2 实验方法 | 第64-65页 |
6.3 结果与讨论 | 第65-80页 |
6.3.1 不同体系下降解银氰络合物 | 第65-66页 |
6.3.2 H_2O_2浓度对g-C_3N_4/H_2O_2光电催化降解银氰络合物的影响 | 第66-67页 |
6.3.3 光电催化体系降解银氰络合物循环实验 | 第67-68页 |
6.3.4 光电催化体系Ag质量平衡 | 第68-69页 |
6.3.5 光电催化体系N质量平衡 | 第69-70页 |
6.3.6 g-C_3N_4电极的表征 | 第70-74页 |
6.3.6.1 SEM-EDX表面形貌分析 | 第70-71页 |
6.3.6.2 XRD分析 | 第71页 |
6.3.6.3 XPS分析 | 第71-74页 |
6.3.7 钛电极的表征 | 第74-76页 |
6.3.7.1 钛电极的SEM-EDS分析 | 第74页 |
6.3.7.2 XPS分析 | 第74-76页 |
6.3.8 机理分析 | 第76-80页 |
6.3.8.1 光电催化体系中g-C_3N_4的光电化学特性 | 第76-77页 |
6.3.8.2 自由基抑制实验 | 第77-80页 |
6.4 本章小结 | 第80-81页 |
第七章 结论与展望 | 第81-83页 |
7.1 结论 | 第81-82页 |
7.2 展望 | 第82-83页 |
参考文献 | 第83-89页 |
攻读硕士学位期间所取得的相关科研成果 | 第89-91页 |
致谢 | 第91页 |