| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-32页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 金属纳米间隙的研究背景 | 第13-16页 |
| 1.2.1 金属的表面等离激元共振 | 第14-15页 |
| 1.2.2 金属纳米间隙中强耦合等离激元共振 | 第15-16页 |
| 1.3 金属纳米间隙的应用 | 第16-20页 |
| 1.3.1 金属纳米间隙结构在光学领域的应用 | 第17-19页 |
| 1.3.2 金属纳米间隙在电子学领域的应用 | 第19-20页 |
| 1.4 金属纳米间隙的制备方法 | 第20-30页 |
| 1.4.1 自下而上的自组装方法制备金属纳米间隙 | 第21-22页 |
| 1.4.2 带电荷粒子束直写技术 | 第22-27页 |
| 1.4.2.1 电子束曝光(Electron Beam Lithography) | 第23-25页 |
| 1.4.2.2 聚焦离子束刻蚀(Focused Ion Beam Milling) | 第25-27页 |
| 1.4.3 电控技术 | 第27-28页 |
| 1.4.3.1 电化学沉积法(Electrochemical Deposition) | 第27-28页 |
| 1.4.3.2 电迁移法(Electromigration) | 第28页 |
| 1.4.4 原子层光刻(Atomic layer lithography) | 第28-29页 |
| 1.4.5 线上刻蚀法(On Wire Lithography) | 第29-30页 |
| 1.5 金属纳米间隙可靠构筑面临的挑战 | 第30页 |
| 1.6 本论文的研究动机及主要工作 | 第30-32页 |
| 第2章 金纳米颗粒-石墨烯纳米间隙-铜箔衬底的表面增强拉曼散射 | 第32-41页 |
| 2.1 研究背景 | 第32-33页 |
| 2.2 金纳米颗粒-石墨烯-铜箔SERS衬底的构造 | 第33-35页 |
| 2.2.1 制造概念 | 第33-34页 |
| 2.2.2 样品制备 | 第34-35页 |
| 2.3 制备的结果及讨论 | 第35-40页 |
| 2.3.1 石墨烯生长的质量 | 第35页 |
| 2.3.2 金纳米颗粒-石墨烯-铜箔SERS衬底 | 第35-37页 |
| 2.3.3 金纳米颗粒-石墨烯-铜箔衬底的SERS性能 | 第37-38页 |
| 2.3.4 金纳米颗粒-石墨烯-铜箔SERS衬底的抗氧化稳定性 | 第38-39页 |
| 2.3.5 金纳米颗粒-石墨烯-铜箔SERS衬底近场增强模拟 | 第39-40页 |
| 2.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 第3章 微米/纳米级腔体中的抗超声剥离效应及其在多尺度金属图案化中的应用 | 第41-61页 |
| 3.1 研究背景 | 第41-43页 |
| 3.2 抗超声剥离效应的概念及展示 | 第43-46页 |
| 3.3 超声剥离效应的工艺窗口 | 第46-52页 |
| 3.4 抗超声剥离效应的机制和分析 | 第52-54页 |
| 3.5 基于AUS效应制备高保真度的金属纳米间隙结构 | 第54-57页 |
| 3.6 AUS效应的应用实例 | 第57-59页 |
| 3.6.1 高精度套刻对准标记 | 第57页 |
| 3.6.2 光刻掩膜版 | 第57-58页 |
| 3.6.3 无粘附层表面等离激元结构的增强拉曼散射的研究 | 第58-59页 |
| 3.7 本章小结 | 第59-61页 |
| 第4章 高低压电子束曝光工艺制作三维纳米结构及其增强拉曼光谱应用 | 第61-76页 |
| 4.1 研究背景 | 第61-63页 |
| 4.2 基于高低压电子束曝光工艺制作三维纳米结构 | 第63-70页 |
| 4.2.1 制造概念和布局设计规则 | 第63-66页 |
| 4.2.2 三维悬空结构的制备 | 第66页 |
| 4.2.3 制备的结果及讨论 | 第66-70页 |
| 4.3 三维纳米结构的金属化 | 第70-75页 |
| 4.3.1 金属沉积 | 第70-71页 |
| 4.3.2 金属化以及剥离的结果 | 第71页 |
| 4.3.3 三维蘑菇状金属纳米结构的暗场散射谱 | 第71-73页 |
| 4.3.4 三维蘑菇状金属纳米结构的SERS | 第73-74页 |
| 4.3.5 三维蘑菇状金属纳米结构剥离后的超透射光谱 | 第74-75页 |
| 4.4 本章小结 | 第75-76页 |
| 第5章 亚10纳米间隙的蘑菇状等离激元二聚体在单粒子水平的敏感SERS检测 | 第76-87页 |
| 5.1 研究背景 | 第76-78页 |
| 5.2 亚10纳米间隙蘑菇状金二聚体的制备 | 第78-80页 |
| 5.2.1 制造概念 | 第78-79页 |
| 5.2.2 样品的制备 | 第79-80页 |
| 5.3 制备的结果及讨论 | 第80-85页 |
| 5.3.1 制备结果 | 第80-81页 |
| 5.3.2 SERS测量 | 第81-83页 |
| 5.3.3 SERS信号增强机制分析 | 第83-85页 |
| 5.4 本章小结 | 第85-87页 |
| 总结与展望 | 第87-89页 |
| 1 本论文的工作总结 | 第87-88页 |
| 2 未来工作的展望 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-101页 |
| 致谢 | 第101-102页 |
| 附录一 博士期间的研究成果 | 第102-103页 |
| 博士期间发表的论文 | 第102-103页 |
| 博士期间获奖情况 | 第103页 |
