碳纳米管阵列制备及碳纳米管向金刚石的相变
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-22页 |
| ·碳纳米管 | 第7-9页 |
| ·定向碳纳米管阵列的制备 | 第9-10页 |
| ·薄膜催化剂法制备碳纳米管阵列 | 第10-13页 |
| ·碳纳米管阵列的应用前景 | 第13-14页 |
| ·碳纳米管向金刚石相变 | 第14-19页 |
| ·激光辐射和真空热蒸发法 | 第15-17页 |
| ·氢等离子体诱导法 | 第17-19页 |
| ·论文研究的意义 | 第19-20页 |
| ·论文研究来源 | 第20页 |
| ·论文研究的内容 | 第20-22页 |
| 第2章 Fe纳米催化剂薄膜的制备 | 第22-32页 |
| ·MEVVA沉积系统 | 第22-24页 |
| ·Fe纳米膜沉积实验准备 | 第24-25页 |
| ·Fe纳米膜表面形貌 | 第25-30页 |
| ·薄膜生长动力学 | 第28-29页 |
| ·Fe纳米膜表面形貌分析 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-32页 |
| 第3章 薄膜催化剂法碳纳米管阵列工艺研究 | 第32-45页 |
| ·化学气相沉积设备 | 第32-33页 |
| ·不同基体温度下沉积的Fe纳米膜的催化性能 | 第33-36页 |
| ·薄膜催化剂CVD法制备碳纳米管阵列 | 第36-44页 |
| ·NH_3浓度对CVD法生长碳纳米管的影响 | 第36-40页 |
| ·C_2H_2浓度对碳纳米管生长的影响 | 第40-41页 |
| ·NH_3前处理时间对碳纳米管生长的影响 | 第41-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 碳纳米管向金刚石相变实验研究 | 第45-59页 |
| ·多功能微波等离子体设备 | 第45-47页 |
| ·实验准备 | 第47-48页 |
| ·微波等离子对碳纳米管的刻蚀性 | 第48-50页 |
| ·微波氢等离子体处理实验 | 第50-55页 |
| ·经10h微波氢等离子体处理后碳纳米管的变化 | 第50-52页 |
| ·经15h微波氢等离子体处理后碳纳米管的变化 | 第52-53页 |
| ·经20h微波氢等离子体处理后碳纳米管的变化 | 第53-55页 |
| ·碳纳米管向金刚石的相变机理 | 第55-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 结论与展望 | 第59-61页 |
| ·结论 | 第59-60页 |
| ·展望 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第66页 |
