| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 前言 | 第10-20页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 半导体光催化的基本原理及其应用 | 第10-13页 |
| 1.2.1 半导体光催化的基本原理 | 第10-11页 |
| 1.2.2 半导体光催化的应用 | 第11-13页 |
| 1.3 半导体光催化剂的研究现状 | 第13页 |
| 1.4 石墨相氮化碳光催化剂的研究现状 | 第13-16页 |
| 1.4.1 石墨相氮化碳光催化剂的研究背景 | 第13-14页 |
| 1.4.2 石墨相氮化碳光催化剂的制备 | 第14-16页 |
| 1.5 石墨相氮化碳复合光催化材料的研究现状 | 第16-18页 |
| 1.5.1 掺杂 | 第16-17页 |
| 1.5.2 半导体复合 | 第17-18页 |
| 1.5.3 染料敏化 | 第18页 |
| 1.6 本论文研究的主要内容 | 第18-20页 |
| 第二章 S掺杂g-C_3N_4光催化还原酰铀性能及机制 | 第20-34页 |
| 2.1 实验部分 | 第20-22页 |
| 2.1.1 实验仪器设备与试剂 | 第20-21页 |
| 2.1.2 光催化剂的制备 | 第21-22页 |
| 2.1.3 光催化活性测试 | 第22页 |
| 2.2 结果与讨论 | 第22-33页 |
| 2.2.1 S-g-C_3N_4样品XRD分析 | 第22-23页 |
| 2.2.2 S-g-C_3N_4形貌分析 | 第23-25页 |
| 2.2.3 S-g-C_3N_4的XPS分析 | 第25-26页 |
| 2.2.4 S-g-C_3N_4的光吸收性能分析 | 第26-28页 |
| 2.2.5 S-g-C_3N_4的光催化性能及稳定性研究 | 第28-33页 |
| 2.3 本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 P掺杂g-C_3N_4微米管光催化还原酰铀性能及机制 | 第34-44页 |
| 3.1 实验部分 | 第34-36页 |
| 3.1.1 实验仪器设备与试剂 | 第34-35页 |
| 3.1.2 光催化剂的制备 | 第35-36页 |
| 3.1.3 光催化活性测试 | 第36页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第36-43页 |
| 3.2.1 P-TCN的XRD分析 | 第36-37页 |
| 3.2.2 P-TCN的形貌分析 | 第37-38页 |
| 3.2.3 P-TCN的XPS分析 | 第38-40页 |
| 3.2.4 P-TCN的光吸收性能分析 | 第40页 |
| 3.2.5 P-TCN的光催化剂的性能及稳定性研究 | 第40-41页 |
| 3.2.6 P-TCN的光电流和电化学阻抗 | 第41-43页 |
| 3.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 碳纳米笼复合g-C_3N_4的制备及其光催化还原酰铀性能研究 | 第44-56页 |
| 4.1 实验部分 | 第44-46页 |
| 4.1.1 实验仪器设备与试剂 | 第44-46页 |
| 4.1.2 光催化剂的制备 | 第46页 |
| 4.1.3 光催化活性测试 | 第46页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第46-54页 |
| 4.2.1 g-C_3N_4/CNCs样品的XRD分析 | 第46-47页 |
| 4.2.2 g-C_3N_4/CNCs样品的形貌分析 | 第47-49页 |
| 4.2.3 g-C_3N_4/CNCs样品的XPS分析 | 第49页 |
| 4.2.4 g-C_3N_4/CNCs样品的Raman分析 | 第49页 |
| 4.2.5 g-C_3N_4/CNCs样品的光吸收性能分析 | 第49-51页 |
| 4.2.6 g-C_3N_4/CNCs样品的光催化性能分析 | 第51-52页 |
| 4.2.7 g-C_3N_4/CNCs样品的机理分析 | 第52-54页 |
| 4.3 本章小结 | 第54-56页 |
| 第五章 总结与展望 | 第56-58页 |
| 5.1 总结 | 第56-57页 |
| 5.2 展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 附录：硕士期间取得的研究成果 | 第72-73页 |
