| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 简缩字表 | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 可变光衰减器的研究背景和研究意义 | 第12-14页 |
| 1.2 可变光衰减器技术简介 | 第14-17页 |
| 1.2.1 机械型可变光衰减器 | 第14-15页 |
| 1.2.2 液晶型可变光衰减器 | 第15页 |
| 1.2.3 MEMS型可变光衰减器 | 第15-16页 |
| 1.2.4 平面光波导型可变光衰减器 | 第16-17页 |
| 1.3 平面光波导型可变光衰减器的发展趋势与研究热点 | 第17-20页 |
| 1.4 本论文的研究目标与内容 | 第20-22页 |
| 第二章 氮氧化硅/聚合物混合集成可变光衰减器的设计 | 第22-47页 |
| 2.1 基本概念 | 第22-24页 |
| 2.1.1 主要特性参数 | 第22-23页 |
| 2.1.2 热光系数 | 第23-24页 |
| 2.2 可变光衰减器的基本设计思想 | 第24-26页 |
| 2.2.1 氮氧化硅/聚合物的性质及应用 | 第24-25页 |
| 2.2.2 设计思路与基本结构 | 第25-26页 |
| 2.3 矩形单模光波导的设计及弯曲波导损耗分析 | 第26-34页 |
| 2.3.1 矩形光波导理论 | 第26-29页 |
| 2.3.2 单模矩形光波导设计 | 第29-31页 |
| 2.3.3 弯曲波导损耗分析 | 第31-34页 |
| 2.4 加热电极功耗分析及低功耗可变光衰减器设计 | 第34-44页 |
| 2.4.1 电极材料的选取 | 第34-35页 |
| 2.4.2 热场建模与分析 | 第35-36页 |
| 2.4.3 功耗分析 | 第36-39页 |
| 2.4.4 低功耗可变光衰减器设计及分析 | 第39-44页 |
| 2.5 BPM模拟分析 | 第44-46页 |
| 2.6 本章小结 | 第46-47页 |
| 第三章 制作工艺研究 | 第47-58页 |
| 3.1 光波导材料特性 | 第47-49页 |
| 3.2 工艺流程设计 | 第49-51页 |
| 3.2.1 光波导制作工艺 | 第49-50页 |
| 3.2.2 电极制作工艺 | 第50-51页 |
| 3.3 掩膜版设计 | 第51-53页 |
| 3.4 主要工艺研究 | 第53-55页 |
| 3.4.1 光刻工艺 | 第53-55页 |
| 3.4.2 磁控溅射工艺 | 第55页 |
| 3.4.3 ICP刻蚀工艺 | 第55页 |
| 3.5 器件制作 | 第55-57页 |
| 3.6 本章小结 | 第57-58页 |
| 第四章 测试分析及工艺优化 | 第58-67页 |
| 4.1 测试平台 | 第58-61页 |
| 4.2 器件测试参数 | 第61-62页 |
| 4.3 器件测试结果 | 第62-65页 |
| 4.4 测试分析及工艺优化 | 第65-66页 |
| 4.5 本章小结 | 第66-67页 |
| 第五章 总结与展望 | 第67-69页 |
| 5.1 总结 | 第67-68页 |
| 5.2 存在的不足与展望 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-72页 |
| 硕士研究生期间取得的研究成果 | 第72-73页 |
| 个人简介 | 第73-74页 |