| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-27页 |
| ·光学薄膜制备历史和方法 | 第10-13页 |
| ·光学薄膜发展历史 | 第10-11页 |
| ·薄膜制备方法分类 | 第11-13页 |
| ·薄膜生长监控手段 | 第13-21页 |
| ·石英晶体监控 | 第14-15页 |
| ·单波长光学监控及改进 | 第15-18页 |
| ·宽光谱光学监控 | 第18-20页 |
| ·其他监控手段 | 第20-21页 |
| ·薄膜的检测方法 | 第21-24页 |
| ·薄膜检测分类 | 第21-22页 |
| ·椭圆偏振光谱测量技术 | 第22-24页 |
| ·本论文工作概述 | 第24-25页 |
| ·研究目的和意义 | 第24页 |
| ·论文工作介绍 | 第24-25页 |
| 参考文献 | 第25-27页 |
| 第二章 薄膜生长宽光谱监控系统研制 | 第27-57页 |
| ·主要实验仪器及设备 | 第27-36页 |
| ·AFDS-1100高性能薄膜生长系统 | 第27-31页 |
| ·光源 | 第31-32页 |
| ·光谱仪 | 第32-36页 |
| ·光路及电路系统 | 第36-44页 |
| ·出射光路搭建及调节 | 第36-39页 |
| ·接收光路搭建及调节 | 第39-43页 |
| ·监控电路 | 第43-44页 |
| ·光谱数据获取及软件系统 | 第44-51页 |
| ·光学薄膜的计算理论 | 第45-47页 |
| ·模拟光谱获取及实验数据去噪处理 | 第47-50页 |
| ·系统软件功能及界面 | 第50-51页 |
| ·薄膜生长准备工作及监控流程介绍 | 第51-54页 |
| ·生长前准备工作及真空环境获取 | 第51-53页 |
| ·监控生长流程 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
| 第三章 红外宽光谱监控制备窄带滤波片 | 第57-89页 |
| ·窄带滤波片的膜系设计 | 第58-65页 |
| ·窄带滤波片设计原理 | 第58-60页 |
| ·膜系结构对窄带滤波片光学特性影响 | 第60-61页 |
| ·折射率误差对窄带滤波片光学特性影响 | 第61-62页 |
| ·厚度误差对窄带滤波片光学特性影响 | 第62-64页 |
| ·膜系修正 | 第64-65页 |
| ·光谱特征分析及数据处理 | 第65-70页 |
| ·光谱特征随生长厚度变化 | 第65-67页 |
| ·数据处理方法及改进 | 第67-70页 |
| ·衬底干涉噪声处理 | 第70-73页 |
| ·衬底干涉 | 第70-71页 |
| ·衬底干涉软处理方法 | 第71-72页 |
| ·衬底干涉硬处理方法 | 第72-73页 |
| ·窄带滤波片的生长 | 第73-79页 |
| ·样品制备参数设定 | 第73-74页 |
| ·K9玻璃衬底的窄带滤波片制备 | 第74-76页 |
| ·硅片衬底的窄带滤波片制备 | 第76-79页 |
| ·实验光谱分析 | 第79-82页 |
| ·实验与理论光谱比较 | 第79-81页 |
| ·宽光谱监控拟合得到的生长膜系 | 第81-82页 |
| ·窄带滤波片应用 | 第82-86页 |
| ·光谱分析新方法 | 第82-83页 |
| ·窄带滤波片用于制作光谱分析系统理论模拟研究 | 第83-86页 |
| ·实验测试 | 第86页 |
| ·小结 | 第86-87页 |
| 参考文献 | 第87-89页 |
| 第四章 生长厚度及速率对硅基二氧化硅薄膜光学性质影响研究 | 第89-110页 |
| ·薄膜的生长 | 第90-92页 |
| ·薄膜生长控制系统的改进 | 第90-92页 |
| ·薄膜生长工艺参数选择 | 第92页 |
| ·薄膜的椭圆偏振光谱测量 | 第92-100页 |
| ·RPAE型椭圆偏振测量原理 | 第93-95页 |
| ·材料色散模型介绍 | 第95-97页 |
| ·椭偏参数的测量与拟合 | 第97-100页 |
| ·实验结果与讨论 | 第100-106页 |
| ·快速生长的SiO2薄膜光学性质随厚度演变 | 第100-103页 |
| ·慢速生长的SiO2薄膜光学性质随厚度演变 | 第103-106页 |
| ·小结 | 第106页 |
| 参考文献 | 第106-110页 |
| 第五章 薄膜生长材料的光学常数温度稳定性的椭圆偏振测量 | 第110-126页 |
| ·温度与材料光学性质理论基础 | 第111-114页 |
| ·光与介电材料的相互作用 | 第111-113页 |
| ·介电常数的温度影响因素 | 第113-114页 |
| ·椭偏测量系统的改进 | 第114-118页 |
| ·温控系统 | 第114-116页 |
| ·变温样品室的设计 | 第116-118页 |
| ·样品的变温椭偏测量 | 第118-122页 |
| ·硅片变温椭偏测量 | 第118-120页 |
| ·金膜变温椭偏测量 | 第120-122页 |
| ·小结 | 第122-123页 |
| 参考文献 | 第123-126页 |
| 第六章 论文工作总结 | 第126-130页 |
| 附:攻读博士学位期间学术成果 | 第130-132页 |
| 致谢 | 第132-134页 |