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以原位点聚合硅胶为修饰基质的分子印迹材料的合成及应用研究

中文摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第一章 前言第11-29页
    1.1 引言第11页
    1.2 分子印迹技术简介及研究进展第11-20页
        1.2.1 分子印迹技术的发展历史第11-12页
        1.2.2 分子印迹技术的基本原理及特性第12-13页
        1.2.3 分子印迹技术的基本形式及要素第13-15页
            1.2.3.1 分子印迹技术的基本形式第13-14页
            1.2.3.2 分子印迹技术的基本要素第14-15页
        1.2.4 分子印迹材料旳制备方法第15-19页
        1.2.5 分子印迹材料的应用第19-20页
            1.2.5.1 生物样品分析第19页
            1.2.5.2 环境样品分析第19-20页
            1.2.5.3 食品样品分析第20页
    1.3 分子印迹与固相萃取第20-23页
        1.3.1 固相萃取的基本原理第20页
        1.3.2 固相萃取的分类第20-21页
        1.3.3 分子印迹在固相萃取中的应用第21-23页
            1.3.3.1 分子印迹固相微萃取第21-22页
            1.3.3.2 分子印迹膜萃取第22页
            1.3.3.3 分子印迹磁性材料分散萃取第22-23页
    1.4 分子印迹技术的展望第23-24页
    参考文献第24-29页
第二章 苏丹I中空分子印迹聚合物的合成、表征和性能评估第29-46页
    2.1 前言第29-30页
    2.2 实验部分第30-33页
        2.2.1 试剂第30页
        2.2.2 仪器第30页
        2.2.3 苏丹I中空分子印迹聚合物的制备(HMIPs)第30-32页
            2.2.3.1 制备PS/SiO_2纳米颗粒第30-31页
            2.2.3.2 MATMS功能化的中空SiO_2纳米颗粒(MHSiO_2)的制备第31页
            2.2.3.3 苏丹I中空分子印迹聚合物(HMIPs)的制备第31-32页
        2.2.4 HMIPs识别性质研究第32-33页
    2.3 结果与讨论第33-43页
        2.3.1 HMIPs的制备第33-34页
        2.3.2 HMIPs的表征第34-36页
        2.3.3 HMIPs键和能力评估第36-40页
        2.3.4 HMIPs选择性研究第40-41页
        2.3.5 辣椒粉中苏丹I的分析第41-42页
        2.3.6 HMIPs重复性实验第42-43页
    2.4 结论第43-44页
    参考文献第44-46页
第三章 以原位点聚合硅胶修饰的多壁碳纳米管为基质的氧氟沙星分子印迹材料的制备,表征和性能评估第46-62页
    3.1 前言第46-47页
    3.2 实验部分第47-50页
        3.2.1 试剂第47页
        3.2.2 仪器第47-48页
        3.2.3 氧氟沙星分子印迹材料的制备第48-49页
            3.2.3.1 CNTs酰氯功能化第48页
            3.2.3.2 SiO_2包覆CNTs(CNTs/SiO_2)第48页
            3.2.3.3 MATMS功能化的CNTs/SiO_2地合成(CNTs/SiO_2/M)第48页
            3.2.3.4 CNTs/SiO_2/M表面包覆印迹材料(CNTs/SiO_2/MIPs)第48-49页
        3.2.4 CNTs/SiO_2/MIPs识别性质研究第49-50页
    3.3 结果与讨论第50-59页
        3.3.1 CNTs/SiO_2/MIPs的制备第50-51页
        3.3.2 分子印迹聚合物的表征第51-54页
        3.3.3 CNTs/SiO_2/MIPs的吸附性能研究第54-57页
        3.3.4 选择性吸附实验第57-58页
        3.3.5 CNTs/SiO_2/MIPs的可重复利用性第58-59页
    3.4 结果讨论第59-60页
    参考文献第60-62页
攻读硕士学位期间发表的论文第62-63页
致谢第63页

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