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荧光碳点的合成及其光学性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第10-22页
    1.1 课题研究的背景和意义第10-14页
        1.1.1 生物示踪第11-12页
        1.1.2 化学和生物传感第12-13页
        1.1.3 基因药物传输第13-14页
    1.2 荧光碳点的研究现状第14-15页
    1.3 荧光碳点的发光机制第15-16页
    1.4 荧光碳点的表面掺杂第16-17页
        1.4.1 N-掺杂第16-17页
        1.4.2 Si-掺杂第17页
        1.4.3 S-掺杂第17页
    1.5 荧光碳点的应用第17-19页
        1.5.1 荧光碳点在金属离子检测中的应用第17-18页
        1.5.2 荧光碳点在生物标记中的应用第18-19页
    1.6 本课题研究的主要内容第19-22页
第2章 实验材料及测试方法第22-28页
    2.1 实验药品及实验仪器第22-23页
        2.1.1 实验药品第22-23页
        2.1.2 实验仪器第23页
    2.2 实验内容第23-25页
        2.2.1 水热合成单掺杂N-CDs的工艺流程第23-24页
        2.2.2 水热合成共掺杂N/Si-和N/S-CDs的工艺流程第24-25页
        2.2.3 检测Fe~(3+)第25页
        2.2.4 细胞成像第25页
    2.3 测试与表征第25-28页
        2.3.1 透射电子显微镜(TEM)第25-26页
        2.3.2 X-射线光电子能谱(XPS)第26页
        2.3.3 傅里叶变换红外光谱(FT-IR)第26页
        2.3.4 X-射线衍射分析(XRD)第26页
        2.3.5 紫外可见吸收光谱(UV-vis)第26页
        2.3.6 荧光光谱(PL)第26页
        2.3.7 荧光量子产率计算(QY)第26-28页
第3章 N-掺杂荧光碳点(N-CDs)的合成第28-43页
    3.1 N-CDs的合成工艺研究第28-32页
        3.1.1 C源的选择第28-29页
        3.1.2 活性物质的选择第29-31页
        3.1.3 反应时间第31页
        3.1.4 反应温度第31-32页
        3.1.5 表面修饰第32页
    3.2 N-CDs的表征和光学性能分析第32-37页
        3.2.1 TEM测试第32-33页
        3.2.2 XPS测试第33-35页
        3.2.3 FTIR测试第35页
        3.2.4 XRD测试第35-36页
        3.2.5 光学性能测试第36-37页
    3.3 N-CDs的稳定性分析第37-38页
        3.3.1 固态吸附第37页
        3.3.2 干燥与溶解第37-38页
    3.4 N-CDs的应用第38-41页
        3.4.1 N-CDs优化应用条件第38-39页
        3.4.2 N-CDs 对 Cu~(2+)和 Hg~(2+)的荧光响应第39-40页
        3.4.3 N-CDs的细胞成像第40-41页
    3.5 本章小结第41-43页
第4章 N/Si-共掺杂荧光碳点(N/Si-CDs)的合成第43-62页
    4.1 N/Si-CDs的合成工艺研究第43-48页
        4.1.1 Si源的选择第43-44页
        4.1.2 APTMS的投料量第44-45页
        4.1.3 活性物质的选择第45-46页
        4.1.4 反应温度第46-47页
        4.1.5 反应时间第47-48页
        4.1.6 浓度第48页
    4.2 N/Si-CDs的表征和光学性能分析第48-56页
        4.2.1 TEM测试第48-50页
        4.2.2 XPS测试第50-51页
        4.2.3 FTIR测试第51-52页
        4.2.4 光学性能测试第52-53页
        4.2.5 XRD测试第53-54页
        4.2.6 稳定性测试第54-56页
    4.3 N/Si-CDs检测Fe~(3+)第56-60页
        4.3.1 N/Si-CDs的选择性第56-58页
        4.3.2 N/Si-CDs的灵敏性第58-60页
        4.3.3 N/Si-CDs的干扰实验第60页
    4.4 本章小结第60-62页
第5章 N/S-共掺杂荧光碳点(N/S-CDs)的合成第62-78页
    5.1 N/S-CDs的合成工艺研究第62-66页
        5.1.1 S源的选择第62-63页
        5.1.2 粉末硫投料量第63-64页
        5.1.3 反应温度第64-65页
        5.1.4 反应时间第65-66页
    5.2 N/S-CDs的表征和光学性能分析第66-73页
        5.2.1 TEM测试第66-67页
        5.2.2 XPS测试第67-69页
        5.2.3 FTIR测试第69页
        5.2.4 XRD测试第69-70页
        5.2.5 光学性能测试第70-72页
        5.2.6 稳定性测试第72-73页
    5.3 N/S-CDs检测Fe~(3+)第73-77页
        5.3.1 N/S-CDs的选择性第73-74页
        5.3.2 N/S-CDs的灵敏性第74-76页
        5.3.3 N/S-CDs的可逆性第76页
        5.3.4 N/S-CDs的干扰实验第76-77页
    5.4 本章小结第77-78页
结论第78-79页
参考文献第79-85页
攻读学位期间发表的学术论文第85-87页
致谢第87页

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