| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 前言 | 第7-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-23页 |
| 1.1 无定形纳米氧化硅简介 | 第8页 |
| 1.2 石英陶瓷简介 | 第8-11页 |
| 1.2.1 石英陶瓷的性能 | 第9-10页 |
| 1.2.2 石英陶瓷的研究现状和发展 | 第10-11页 |
| 1.3 石英陶瓷的制备工艺介绍 | 第11-16页 |
| 1.3.1 石英陶瓷坯体成型工艺 | 第11-13页 |
| 1.3.2 注凝成型石英陶瓷制备工艺 | 第13-16页 |
| 1.4 石英陶瓷国内外研究现状 | 第16-19页 |
| 1.4.1 综合研究现状 | 第16-17页 |
| 1.4.2 不同原料的研究 | 第17-18页 |
| 1.4.3 外加剂和纤维增强的研究 | 第18-19页 |
| 1.4.4 其他因素的研究 | 第19页 |
| 1.5 真空浸渍工艺 | 第19-21页 |
| 1.5.1 真空浸渍工艺简介 | 第19-20页 |
| 1.5.2 真空浸渍工艺常用浸渍体系 | 第20-21页 |
| 1.6 问题的提出 | 第21-23页 |
| 第二章 实验设计与研究方法 | 第23-29页 |
| 2.1 实验配方以及实验设备 | 第23页 |
| 2.2 实验原料 | 第23-24页 |
| 2.3 样品制备 | 第24-26页 |
| 2.3.1 凝胶注模成型工艺制备样品 | 第24页 |
| 2.3.2 真空浸渍工艺制备样品 | 第24-25页 |
| 2.3.3 离子引入法制备样品 | 第25-26页 |
| 2.4 测试与表征 | 第26-29页 |
| 2.4.1 测试仪器 | 第26页 |
| 2.4.2 测试方法 | 第26-29页 |
| 第三章 实验结果与讨论 | 第29-58页 |
| 3.1 添加剂以及生产工艺对纳米无定形SiO2 石英陶瓷材料性能的影响 | 第29-46页 |
| 3.1.1 添加剂种类和添加剂用量的影响 | 第29-33页 |
| 3.1.2 烧成温度的影响 | 第33-36页 |
| 3.1.3 保温时间影响 | 第36-38页 |
| 3.1.4 石英陶瓷制备过程中方石英化过程以及Al2O3 添加剂析晶抑制作用的研究分析 | 第38-46页 |
| 3.2 离子引入法的研究 | 第46-50页 |
| 3.2.1 流程设计 | 第47页 |
| 3.2.2 结果分析 | 第47-50页 |
| 3.3 煅烧预处理对样品强度的影响研究 | 第50-53页 |
| 3.3.1 煅烧温度对固相含量的影响 | 第50-51页 |
| 3.3.2 煅烧温度对抗弯强度的影响 | 第51-53页 |
| 3.4 真空浸渍技术增强工艺的初步探索 | 第53-58页 |
| 3.4.1 流程设计 | 第53-54页 |
| 3.4.2 煅烧预处理对氧化硅基体浸渍效果的影响 | 第54-56页 |
| 3.4.3 保压时间和固相含量对氧化硅基体浸渍效果的影响 | 第56-58页 |
| 第四章 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
