双层结构钝化膜的光电流响应分析
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第9页 |
| 1.2 钝化膜相关理论 | 第9-12页 |
| 1.2.1 三种成膜理论 | 第10-11页 |
| 1.2.2 钝化膜结构类型 | 第11页 |
| 1.2.3 钝化膜耐蚀性判断依据 | 第11-12页 |
| 1.3 金属钝化膜的半导体理论 | 第12-13页 |
| 1.4 光电化学理论 | 第13-14页 |
| 1.5 国内外研究进展 | 第14-15页 |
| 1.6 本章小结 | 第15-17页 |
| 第2章 实验理论基础 | 第17-24页 |
| 2.1 极化曲线 | 第17-18页 |
| 2.2 Mott-Schottky 曲线测试 | 第18-19页 |
| 2.3 光电流测试 | 第19-21页 |
| 2.4 锁相放大器原理 | 第21-23页 |
| 2.5 本章小结 | 第23-24页 |
| 第3章 实验材料及方法 | 第24-31页 |
| 3.1 实验材料 | 第24页 |
| 3.2 实验仪器和试剂 | 第24-25页 |
| 3.3 实验方法 | 第25-30页 |
| 3.3.1 高温空气氧化 | 第25页 |
| 3.3.2 电化学钝化 | 第25页 |
| 3.3.3 光电流响应分析及电化学测试 | 第25-27页 |
| 3.3.4 光强分布测试 | 第27-30页 |
| 3.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第4章 实验结果与讨论 | 第31-43页 |
| 4.1 极化曲线分析 | 第31页 |
| 4.2 Mott-Schottky 分析 | 第31-34页 |
| 4.3 光电流响应分析 | 第34-42页 |
| 4.3.1 采用锁相放大技术进行的光电流响应测试 | 第34-37页 |
| 4.3.2 不用锁相放大技术进行的光电流响应测试 | 第37-40页 |
| 4.3.3 采用和不用锁相放大器的各类光电流对比 | 第40-42页 |
| 4.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第5章 结论与展望 | 第43-45页 |
| 5.1 结论 | 第43-44页 |
| 5.2 展望 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-48页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49页 |
