摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-22页 |
1.1 染料废水的简述 | 第10-11页 |
1.1.1 特点 | 第10页 |
1.1.2 危害 | 第10-11页 |
1.1.3 处理现状 | 第11页 |
1.2 光催化氧化技术 | 第11-15页 |
1.2.1 光催化氧化技术的机理 | 第12页 |
1.2.2 光催化氧化技术的特点 | 第12页 |
1.2.3 纳米半导体光催化剂的研究现状 | 第12-15页 |
1.4 新型窄带隙金属化合物的光催化材料 | 第15-17页 |
1.5 影响半导体光催化活性的因素 | 第17-19页 |
1.5.1 晶体结构 | 第18页 |
1.5.2 光催化剂的颗粒尺寸和表面特性 | 第18-19页 |
1.5.3 外部其他因素 | 第19页 |
1.6 光催化剂应用中存在的问题 | 第19-20页 |
1.7 本论文的研究意义、思路和内容 | 第20-22页 |
1.7.1 研究意义 | 第20页 |
1.7.2 研究思路 | 第20-21页 |
1.7.3 研究内容 | 第21-22页 |
第二章 实验部分 | 第22-27页 |
2.1 实验主要试剂和仪器 | 第22-23页 |
2.1.1 实验试剂 | 第22页 |
2.1.2 实验仪器 | 第22-23页 |
2.2 催化剂的制备 | 第23页 |
2.3 催化剂表征分析 | 第23-24页 |
2.3.1 X射线衍射 | 第23页 |
2.3.2 扫描电镜 | 第23-24页 |
2.3.3 紫外-可见漫反射光谱 | 第24页 |
2.3.4 N_2吸附-脱附 | 第24页 |
2.3.5 傅立叶红外变换光谱 | 第24页 |
2.4 催化剂反应性能评价 | 第24-27页 |
2.4.1 标准曲线的绘制 | 第24-25页 |
2.4.2 光催化反应实验 | 第25-27页 |
第三章 Bi_2WO_6的制备及光催化性能的研究 | 第27-39页 |
3.1 引言 | 第27页 |
3.2 制备Bi_2WO_6的方法和条件的选择 | 第27-32页 |
3.2.1 制备方法的选择 | 第27-28页 |
3.2.2 制备条件的选择 | 第28-32页 |
3.3 前驱液pH系列催化剂的表征 | 第32-36页 |
3.3.1 SEM表征 | 第32-34页 |
3.3.2 Uv-vis表征 | 第34-35页 |
3.3.3 BET表征 | 第35页 |
3.3.4 FT-IR表征 | 第35-36页 |
3.4 催化剂稳定性的考察 | 第36-37页 |
3.5 本章小结 | 第37-39页 |
第四章 掺杂型Bi_2WO_6的制备及光催化性能的研究 | 第39-47页 |
4.1 引言 | 第39页 |
4.2 掺杂型Bi_2WO_6催化剂的制备 | 第39页 |
4.3 不同金属掺杂Bi_2WO_6的研究 | 第39-40页 |
4.4 不同掺杂浓度的Zr-Bi_2WO_6催化剂的研究 | 第40-46页 |
4.4.1 掺杂型催化剂Zr-Bi_2WO_6的表征分析 | 第40-44页 |
4.4.2 Zr掺杂型催化剂的活性评价 | 第44-45页 |
4.4.3 Zr掺杂型催化剂稳定性的考察 | 第45-46页 |
4.5 本章小结 | 第46-47页 |
第五章 降解RhB工艺条件的优化及动力学研究 | 第47-51页 |
5.1 降解模拟废水工艺条件的优化 | 第47-49页 |
5.1.1 催化剂用量的影响 | 第47-48页 |
5.1.2 溶液初始pH的影响 | 第48-49页 |
5.1.3 溶液初始浓度的影响 | 第49页 |
5.2 反应的动力学分析 | 第49-50页 |
5.3 本章小结 | 第50-51页 |
全文总结与展望 | 第51-53页 |
结论 | 第51页 |
展望 | 第51-53页 |
参考文献 | 第53-58页 |
攻读硕士学位期间取得的成果 | 第58-59页 |
致谢 | 第59页 |