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Bi2WO6催化剂的制备及光催化性能的研究

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第10-22页
    1.1 染料废水的简述第10-11页
        1.1.1 特点第10页
        1.1.2 危害第10-11页
        1.1.3 处理现状第11页
    1.2 光催化氧化技术第11-15页
        1.2.1 光催化氧化技术的机理第12页
        1.2.2 光催化氧化技术的特点第12页
        1.2.3 纳米半导体光催化剂的研究现状第12-15页
    1.4 新型窄带隙金属化合物的光催化材料第15-17页
    1.5 影响半导体光催化活性的因素第17-19页
        1.5.1 晶体结构第18页
        1.5.2 光催化剂的颗粒尺寸和表面特性第18-19页
        1.5.3 外部其他因素第19页
    1.6 光催化剂应用中存在的问题第19-20页
    1.7 本论文的研究意义、思路和内容第20-22页
        1.7.1 研究意义第20页
        1.7.2 研究思路第20-21页
        1.7.3 研究内容第21-22页
第二章 实验部分第22-27页
    2.1 实验主要试剂和仪器第22-23页
        2.1.1 实验试剂第22页
        2.1.2 实验仪器第22-23页
    2.2 催化剂的制备第23页
    2.3 催化剂表征分析第23-24页
        2.3.1 X射线衍射第23页
        2.3.2 扫描电镜第23-24页
        2.3.3 紫外-可见漫反射光谱第24页
        2.3.4 N_2吸附-脱附第24页
        2.3.5 傅立叶红外变换光谱第24页
    2.4 催化剂反应性能评价第24-27页
        2.4.1 标准曲线的绘制第24-25页
        2.4.2 光催化反应实验第25-27页
第三章 Bi_2WO_6的制备及光催化性能的研究第27-39页
    3.1 引言第27页
    3.2 制备Bi_2WO_6的方法和条件的选择第27-32页
        3.2.1 制备方法的选择第27-28页
        3.2.2 制备条件的选择第28-32页
    3.3 前驱液pH系列催化剂的表征第32-36页
        3.3.1 SEM表征第32-34页
        3.3.2 Uv-vis表征第34-35页
        3.3.3 BET表征第35页
        3.3.4 FT-IR表征第35-36页
    3.4 催化剂稳定性的考察第36-37页
    3.5 本章小结第37-39页
第四章 掺杂型Bi_2WO_6的制备及光催化性能的研究第39-47页
    4.1 引言第39页
    4.2 掺杂型Bi_2WO_6催化剂的制备第39页
    4.3 不同金属掺杂Bi_2WO_6的研究第39-40页
    4.4 不同掺杂浓度的Zr-Bi_2WO_6催化剂的研究第40-46页
        4.4.1 掺杂型催化剂Zr-Bi_2WO_6的表征分析第40-44页
        4.4.2 Zr掺杂型催化剂的活性评价第44-45页
        4.4.3 Zr掺杂型催化剂稳定性的考察第45-46页
    4.5 本章小结第46-47页
第五章 降解RhB工艺条件的优化及动力学研究第47-51页
    5.1 降解模拟废水工艺条件的优化第47-49页
        5.1.1 催化剂用量的影响第47-48页
        5.1.2 溶液初始pH的影响第48-49页
        5.1.3 溶液初始浓度的影响第49页
    5.2 反应的动力学分析第49-50页
    5.3 本章小结第50-51页
全文总结与展望第51-53页
    结论第51页
    展望第51-53页
参考文献第53-58页
攻读硕士学位期间取得的成果第58-59页
致谢第59页

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