| 摘要 | 第9-10页 |
| ABSTRACT | 第10-11页 |
| 第1章 绪论 | 第12-23页 |
| 1.1 微纳米技术的研究现状 | 第12-16页 |
| 1.1.1 LIGA微纳米加工技术 | 第12-14页 |
| 1.1.2 基于能量束的微纳加工技术 | 第14-15页 |
| 1.1.3 基于MEMS工艺的微纳加工技术 | 第15-16页 |
| 1.2 基于扫描探针显微镜系统的微纳加工技术发展现状 | 第16-18页 |
| 1.3 表面重构的分子动力学研究现状 | 第18-20页 |
| 1.4 传统加工技术的理论基础及课题的提出 | 第20-21页 |
| 1.4.1 传统加工技术的基础及存在的问题 | 第20-21页 |
| 1.4.2 课题的提出 | 第21页 |
| 1.5 课题研究内容和意义 | 第21-23页 |
| 1.5.1 课题的主要研究内容 | 第21-22页 |
| 1.5.2 课题的研究意义 | 第22-23页 |
| 第2章 纳米刻划机理的分子动力学仿真研究 | 第23-47页 |
| 2.1 分子动力学仿真方法概述 | 第23-27页 |
| 2.1.1 分子动力学基础 | 第23-24页 |
| 2.1.2 基本运动方程 | 第24-25页 |
| 2.1.3 势函数的选择 | 第25-26页 |
| 2.1.4 分子动力学仿真中的边界条件 | 第26-27页 |
| 2.2 单晶硅纳米刻划仿真模型的建立 | 第27-30页 |
| 2.3 压入过程的分子动力学仿真 | 第30-38页 |
| 2.3.1 探针压入过程的运动分析 | 第30-31页 |
| 2.3.2 探针压入过程中的应力分析 | 第31-38页 |
| 2.4 刻划过程的分子动力学仿真 | 第38-43页 |
| 2.4.1 探针刻划过程的运动分析 | 第38-40页 |
| 2.4.2 探针刻划过程中的应力分析 | 第40-43页 |
| 2.5 纳米刻划中的原子重构机理研究 | 第43-45页 |
| 2.5.1 单晶硅纳米刻划过程中的相变行为 | 第43-44页 |
| 2.5.2 单晶硅纳米刻划过程的原子重构 | 第44-45页 |
| 2.6 本章小结 | 第45-47页 |
| 第3章 纳米刻划机理的实验研究 | 第47-59页 |
| 3.1 实验设备及样品制备 | 第47-48页 |
| 3.2 单晶硅的纳米压痕实验 | 第48-53页 |
| 3.3 单晶硅的纳米刻划实验 | 第53-58页 |
| 3.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第4章 纳米刻划的工艺研究 | 第59-72页 |
| 4.1 纳米压痕深度预测模型 | 第59-60页 |
| 4.2 工艺参数对刻划深度的影响研究 | 第60-68页 |
| 4.2.1 刻划力对刻划深度的影响研究 | 第60-64页 |
| 4.2.2 刻划次数对深度的影响研究 | 第64-66页 |
| 4.2.3 刻划速度对深度的影响研究 | 第66-68页 |
| 4.3 刻划次数对刻划槽形的影响研究 | 第68-71页 |
| 4.4 本章小结 | 第71-72页 |
| 结论与展望 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 学位论文评阅及答辩情况 | 第81页 |