| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 前言 | 第10-11页 |
| 1.2 熏蒸剂的概述 | 第11-14页 |
| 1.2.1 常用熏蒸剂 | 第11-12页 |
| 1.2.2 硫酰氟介绍 | 第12-13页 |
| 1.2.3 硫酰氟的危害 | 第13-14页 |
| 1.3 废气脱除的方法 | 第14-17页 |
| 1.3.1 燃烧法 | 第14-15页 |
| 1.3.2 吸收法 | 第15页 |
| 1.3.3 吸附法 | 第15页 |
| 1.3.4 低温等离子体法 | 第15-17页 |
| 1.4 研究意义 | 第17页 |
| 1.5 主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 低温等离子体相关理论基础 | 第19-34页 |
| 2.1 低温等离子体 | 第19-23页 |
| 2.1.1 电晕放电 | 第21页 |
| 2.1.2 介质阻挡放电 | 第21-22页 |
| 2.1.3 辉光放电 | 第22-23页 |
| 2.1.4 微波放电 | 第23页 |
| 2.1.5 射频放电 | 第23页 |
| 2.2 低温等离子体在废气控制方面的研究 | 第23-28页 |
| 2.2.1 低温等离子体脱除SO_2的研究进展 | 第23-24页 |
| 2.2.2 低温等离子体脱除NO_x的研究进展 | 第24-26页 |
| 2.2.3 低温等离子体脱除VOC_s的研究进展 | 第26-27页 |
| 2.2.4 低温等离子体脱除SF_6的研究进展 | 第27-28页 |
| 2.3 介质阻挡放电的理论基础 | 第28-34页 |
| 2.3.1 介质阻挡放电的装置类型及放电原理 | 第29-30页 |
| 2.3.2 介质阻挡放电反应器的放电特性 | 第30页 |
| 2.3.3 介质阻挡放电物理参数 | 第30-34页 |
| 第三章 实验系统 | 第34-42页 |
| 3.1 实验仪器及实验药品 | 第34-35页 |
| 3.2 实验流程 | 第35-38页 |
| 3.2.1 混合配气系统 | 第36页 |
| 3.2.2 高压电源供电系统 | 第36-37页 |
| 3.2.3 等离子体反应器 | 第37-38页 |
| 3.3 分析方法和分析仪器 | 第38-40页 |
| 3.4 数据处理 | 第40-42页 |
| 第四章 介质阻挡放电等离子体脱除硫酰氟研究 | 第42-53页 |
| 4.1 引言 | 第42-43页 |
| 4.2 放电电压对脱除效率的影响 | 第43-44页 |
| 4.3 放电频率对脱除效率的影响 | 第44-45页 |
| 4.4 有无填充介质对硫酰氟脱除效率影响 | 第45-49页 |
| 4.4.1 填充石英玻璃球时等离子体反应器仿真模拟 | 第46-48页 |
| 4.4.2 填充石英玻璃球对脱除效率的影响 | 第48-49页 |
| 4.5 电极间距对脱除效率的影响 | 第49-50页 |
| 4.6 进料浓度对脱除效率影响 | 第50-51页 |
| 4.7 停留时间对脱除效率影响 | 第51-52页 |
| 4.8 本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 产物分析及机理推断 | 第53-61页 |
| 5.1 引言 | 第53页 |
| 5.2 产物分析 | 第53-55页 |
| 5.3 机理讨论 | 第55-57页 |
| 5.4 反应动力学模型 | 第57-58页 |
| 5.5 等离子体耦合化学吸收无害化脱除硫酰氟 | 第58-60页 |
| 5.6 本章小结 | 第60-61页 |
| 第六章 填充介质对等离子体脱除硫酰氟影响的研究 | 第61-67页 |
| 6.1 引言 | 第61页 |
| 6.2 不同填充介质下放电电压对脱除效率的影响 | 第61-63页 |
| 6.3 不同填充介质下能量密度对脱除效率的影响 | 第63-64页 |
| 6.4 不同填充介质对脱除产物的影响 | 第64-65页 |
| 6.5 氧化铝球对硫酰氟脱除持续性研究 | 第65-66页 |
| 6.6 本章小结 | 第66-67页 |
| 第七章 结论与建议 | 第67-70页 |
| 7.1 结论 | 第67-68页 |
| 7.2 建议 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-78页 |
| 致谢 | 第78-80页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第80-82页 |
| 附录 | 第82页 |