摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 CuCrO_2材料体系综述 | 第12-28页 |
1.1 铜铁矿结构材料的研究背景和进展 | 第12-13页 |
1.2 晶体结构与电子结构 | 第13-16页 |
1.3 透光性和带隙 | 第16-19页 |
1.4 电和热输运性能及电阻率各向异性 | 第19-21页 |
1.5 激光感生电压(LIV)效应介绍 | 第21-25页 |
1.6 应用前景 | 第25-26页 |
1.7 研究意义和内容 | 第26-28页 |
1.7.1 研究目的及意义 | 第26-27页 |
1.7.2 研究的主要内容 | 第27-28页 |
第二章 实验方法 | 第28-44页 |
2.1 多晶靶材制备 | 第28-30页 |
2.2 薄膜制备 | 第30-34页 |
2.2.1 PLD系统与工作原理 | 第30-33页 |
2.2.2 PLD技术特点与工艺变量 | 第33-34页 |
2.3 材料的表征 | 第34-39页 |
2.3.1 多晶XRD表征 | 第35页 |
2.3.2 薄膜XRD表征 | 第35-37页 |
2.3.3 SEM表征 | 第37-38页 |
2.3.4 AFM表征 | 第38-39页 |
2.4 材料的性能测试 | 第39-42页 |
2.4.1 电阻率-温度曲线 | 第39-40页 |
2.4.2 Hall效应测试 | 第40页 |
2.4.3 透射光谱测试 | 第40页 |
2.4.4 激光感生电压信号测试 | 第40-42页 |
2.5 本章小结 | 第42-44页 |
第三章 CuCr_(1-x)Mg_xO_2多晶靶材制备及性能研究 | 第44-58页 |
3.1 CuCrO_2多晶制备工艺探索 | 第44-48页 |
3.1.1 工艺探索 | 第44-46页 |
3.1.2 XRD结果 | 第46页 |
3.1.3 ρ-T结果 | 第46-48页 |
3.2 CuCr_(1-x)Mg_xO_2多晶靶材的表征 | 第48-51页 |
3.2.1 RD结构表征 | 第48-49页 |
3.2.2 SEM形貌观察 | 第49-51页 |
3.3 CuCr_(1-x)Mg_xO_2多晶靶材的电输运性能 | 第51-53页 |
3.3.1 电阻率温度曲线 | 第51-52页 |
3.3.2 Hall测试结果 | 第52-53页 |
3.4 Mg的掺杂效应 | 第53-55页 |
3.4.1 Mg掺杂对晶体结构和晶粒形貌的影响 | 第54页 |
3.4.2 Mg掺杂对电输运性能的影响 | 第54-55页 |
3.5 本章小结 | 第55-58页 |
第四章 CuCr_(1-x)Mg_xO_2薄膜制备及电输运性质和LIV效应 | 第58-80页 |
4.1 薄膜生长 | 第58-62页 |
4.1.1 衬底和靶材 | 第58页 |
4.1.2 制备流程及生长工艺 | 第58-59页 |
4.1.3 薄膜生长的较佳工艺 | 第59-62页 |
4.2 薄膜的外延性表征 | 第62-66页 |
4.2.1 薄膜的面内φ扫描 | 第62-64页 |
4.2.2 倾斜薄膜的XRD表征 | 第64-66页 |
4.3 薄膜的AFM观察 | 第66-67页 |
4.4 薄膜的厚度及透光性 | 第67-70页 |
4.4.1 截面的SEM观察 | 第67-68页 |
4.4.2 透射光谱 | 第68-69页 |
4.4.3 光学带隙拟合 | 第69-70页 |
4.5 薄膜的ρ-T测量及电输运各向异性 | 第70-75页 |
4.5.1 平直与倾斜衬底上薄膜的ρ-T曲线对比 | 第70-71页 |
4.5.2 电阻率各向异性推导 | 第71-73页 |
4.5.3 CuCr_(1-x)Mg_xO_2薄膜中的电输运各向异性 | 第73-75页 |
4.6 c轴倾斜薄膜的LIV效应及机制探索 | 第75-78页 |
4.6.1 CuCrO_2薄膜的LIV响应 | 第75页 |
4.6.2 CuCr_(0.08)Mg_(0.02)O_2薄膜的LIV信号 | 第75-77页 |
4.6.3 薄膜LIV效应与电阻率的关联 | 第77-78页 |
4.7 本章小结 | 第78-80页 |
第五章 结论与展望 | 第80-82页 |
5.1 结论 | 第80-81页 |
5.2 创新点和展望 | 第81-82页 |
致谢 | 第82-84页 |
参考文献 | 第84-92页 |
附录 硕士期间发表的论文 | 第92页 |