| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 引言 | 第11-23页 |
| 1.1 同步辐射的发展 | 第11-14页 |
| 1.2 上海光源简介 | 第14-16页 |
| 1.3 光束的相干性 | 第16-17页 |
| 1.4 相干性的应用 | 第17-20页 |
| 1.4.1 相干衍射成像(CDI) | 第17-18页 |
| 1.4.2 X射线干涉光刻(XIL) | 第18-19页 |
| 1.4.3 X射线光子关联谱(XPCS) | 第19-20页 |
| 1.5 同步辐射光束线设计模型的发展 | 第20-22页 |
| 1.6 论文的研究内容及意义 | 第22-23页 |
| 第2章 部分相干光的概念 | 第23-40页 |
| 2.1 引言 | 第23-24页 |
| 2.2 衍射理论 | 第24-28页 |
| 2.2.1 惠更斯-菲涅耳衍射 | 第24-25页 |
| 2.2.2 基尔霍夫衍射 | 第25-27页 |
| 2.2.3 夫琅禾费衍射 | 第27-28页 |
| 2.3 相干性的概念 | 第28-30页 |
| 2.3.1 光的干涉 | 第28-29页 |
| 2.3.2 时间相干性 | 第29-30页 |
| 2.3.3 空间相干性 | 第30页 |
| 2.4 部分相干光的传播 | 第30-40页 |
| 2.4.1 互相干函数 | 第30-33页 |
| 2.4.2 互强度和复相干度 | 第33-35页 |
| 2.4.3 互强度的传播 | 第35-37页 |
| 2.4.4 交叉频谱密度的传播 | 第37页 |
| 2.4.5 范泽西-泽尼克定理 | 第37-40页 |
| 第3章 MOI模型的建立 | 第40-69页 |
| 3.1 引言 | 第40-41页 |
| 3.2 自由空间的互强度传播 | 第41-44页 |
| 3.3 菲涅耳积分数值计算 | 第44-47页 |
| 3.4 同步辐射光学元件 | 第47-51页 |
| 3.5 理想镜面的互强度传播 | 第51-54页 |
| 3.6 非理想镜面的互强度传播 | 第54-63页 |
| 3.6.1 镜子的面形 | 第54-56页 |
| 3.6.2 面形对相干性的影响 | 第56-58页 |
| 3.6.3 MOI模型、SRW和Hybrid的比较 | 第58-61页 |
| 3.6.4 相干性和通量的优化 | 第61-63页 |
| 3.7 干涉光刻的的互强度传播 | 第63-69页 |
| 3.7.1 干涉条纹强度分布 | 第65-66页 |
| 3.7.2 相干性对干涉条纹的影响 | 第66-67页 |
| 3.7.3 光栅的衍射效率 | 第67-69页 |
| 第4章 MOI模型的应用研究 | 第69-91页 |
| 4.1 引言 | 第69-70页 |
| 4.2 上海光源软X射线谱学显微光束线站相干性分析 | 第70-82页 |
| 4.2.1 光束线站的建设目标 | 第70-71页 |
| 4.2.2 EPU设计 | 第71-72页 |
| 4.2.3 光学布局 | 第72-74页 |
| 4.2.4 SX700光栅单色器 | 第74-75页 |
| 4.2.5 高斯-谢尔光源模型 | 第75-76页 |
| 4.2.6 相干性经过光束线的传播 | 第76-79页 |
| 4.2.7 相干长度的测量 | 第79-82页 |
| 4.3 上海光源软X射线干涉光刻束线站相干性分析 | 第82-91页 |
| 4.3.1 光束线站的建设目标 | 第82-83页 |
| 4.3.2 光学布局 | 第83-84页 |
| 4.3.3 相干性经过光束线的传播 | 第84-87页 |
| 4.3.4 光束线通量和相干性优化 | 第87-88页 |
| 4.3.5 相干长度的测量 | 第88-89页 |
| 4.3.6 光刻胶宽度测量 | 第89-91页 |
| 第5章 总结与展望 | 第91-93页 |
| 参考文献 | 第93-98页 |
| 致谢 | 第98-99页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第99-100页 |