| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 半导体光催化基本原理 | 第11-13页 |
| 1.3 光催化活性影响因素 | 第13-14页 |
| 1.4 g-C_3N_4概述 | 第14-16页 |
| 1.4.1 g-C_3N_4的结构 | 第14页 |
| 1.4.2 g-C_3N_4的制备 | 第14-15页 |
| 1.4.3 g-C_3N_4的改性 | 第15-16页 |
| 1.5 二维g-C_3N_4纳米片的研究进展 | 第16-21页 |
| 1.5.1 制备方法 | 第17-20页 |
| 1.5.2 光催化应用 | 第20-21页 |
| 1.6 g-C_3N_4基复合材料的研究现状 | 第21-22页 |
| 1.6.1 Ag/g-C_3N_4复合材料的研究现状 | 第21-22页 |
| 1.6.2 石墨烯/g-C_3N_4复合材料的研究现状 | 第22页 |
| 1.7 选题意义及研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 二维g-C_3N_4纳米片的制备及其光催化性能研究 | 第24-35页 |
| 2.1 引言 | 第24页 |
| 2.2 实验部分 | 第24-26页 |
| 2.2.1 实验原料与设备 | 第24页 |
| 2.2.2 光催化剂的制备 | 第24-25页 |
| 2.2.3 测试与表征 | 第25页 |
| 2.2.4 光催化性能测试 | 第25-26页 |
| 2.2.5 光电流测试 | 第26页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第26-33页 |
| 2.3.1 g-C_3N_4纳米片的形成机理 | 第26-27页 |
| 2.3.2 结构和形貌分析 | 第27-30页 |
| 2.3.3 光学性质分析 | 第30-31页 |
| 2.3.4 光催化性能分析 | 第31-33页 |
| 2.4 本章小结 | 第33-35页 |
| 第三章 Ag/g-C_3N_4复合材料的制备及其光催化性能研究 | 第35-50页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 实验部分 | 第35-37页 |
| 3.2.1 实验试剂和仪器 | 第35页 |
| 3.2.2 光催化剂的制备 | 第35-36页 |
| 3.2.3 测试与表征 | 第36页 |
| 3.2.4 光催化性能测试 | 第36页 |
| 3.2.5 光电流和电化学阻抗测试 | 第36-37页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第37-49页 |
| 3.3.1 结构与形貌分析 | 第37-43页 |
| 3.3.2 光学性质分析 | 第43-44页 |
| 3.3.3 光催化性能分析 | 第44-48页 |
| 3.3.4 光催化机理分析 | 第48-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 Ag/g-C_3N_4/rGO三维气凝胶的制备及其光催化性能研究 | 第50-62页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 实验部分 | 第50-52页 |
| 4.2.1 实验试剂和仪器 | 第50页 |
| 4.2.2 光催化剂的制备 | 第50-51页 |
| 4.2.3 测试与表征 | 第51页 |
| 4.2.4 光催化性能测试 | 第51-52页 |
| 4.2.5 光电流和电化学阻抗测试 | 第52页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第52-60页 |
| 4.3.1 结构与形貌分析 | 第52-55页 |
| 4.3.2 光学性质分析 | 第55-57页 |
| 4.3.3 光催化性能分析 | 第57-60页 |
| 4.3.4 光催化机理分析 | 第60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 结论与展望 | 第62-64页 |
| 5.1 结论 | 第62-63页 |
| 5.2 展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第74页 |
