| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-20页 |
| 1.1 选题背景 | 第11页 |
| 1.2 石墨烯的晶体结构 | 第11-13页 |
| 1.3 石墨烯的制备方法 | 第13-14页 |
| 1.3.1 机械剥离法 | 第13页 |
| 1.3.2 氧化还原法 | 第13-14页 |
| 1.3.3 化学气相沉积法 | 第14页 |
| 1.4 ZnO的晶体结构 | 第14-15页 |
| 1.5 ZnO薄膜制备方法 | 第15-18页 |
| 1.5.1 化学气相沉积法 | 第15-16页 |
| 1.5.2 分子束外延法 | 第16页 |
| 1.5.3 脉冲激光沉积法 | 第16页 |
| 1.5.4 磁控溅射法 | 第16-17页 |
| 1.5.5 原子层沉积法 | 第17页 |
| 1.5.6 热蒸发法 | 第17页 |
| 1.5.7 喷雾热分解法 | 第17-18页 |
| 1.5.8 溶胶-凝胶法 | 第18页 |
| 1.6 本文的主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第2章 实验方法 | 第20-30页 |
| 2.1 实验药品与所用仪器 | 第20-21页 |
| 2.2 薄膜制备方法 | 第21-23页 |
| 2.2.1 石墨烯薄膜的制备 | 第21-22页 |
| 2.2.2 石墨烯-ZnO薄膜的制备 | 第22-23页 |
| 2.3 表征 | 第23-30页 |
| 2.3.1 X-射线衍射 | 第24-25页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜 | 第25页 |
| 2.3.3 原子力显微镜 | 第25-26页 |
| 2.3.4 透射电子显微镜 | 第26页 |
| 2.3.5 紫外-可见光光谱 | 第26-27页 |
| 2.3.6 光致发光光谱 | 第27页 |
| 2.3.7 拉曼光谱 | 第27页 |
| 2.3.8 红外光谱 | 第27-28页 |
| 2.3.9 四探针法 | 第28-30页 |
| 第3章 石墨烯薄膜的制备 | 第30-43页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 氧化石墨烯薄膜的制备 | 第30-33页 |
| 3.2.1 普通白玻璃处理 | 第30-31页 |
| 3.2.2 氧化石墨(GO)薄膜的制备 | 第31页 |
| 3.2.3 氧化石墨(GO)的表征 | 第31-33页 |
| 3.3 HI还原氧化石墨烯薄膜得到石墨烯薄膜 | 第33-39页 |
| 3.3.1 实验过程以及结构分析 | 第34-37页 |
| 3.3.2 HI还原时间、HI浓度、还原温度对石墨烯薄膜电学性能的影响 | 第37-39页 |
| 3.4 提拉速度对石墨烯薄膜性能的影响 | 第39-41页 |
| 3.4.1 实验方案 | 第39页 |
| 3.4.2 结构性能分析 | 第39-40页 |
| 3.4.3 电学性能 | 第40-41页 |
| 3.5 提拉次数对石墨烯薄膜性能的影响 | 第41-42页 |
| 3.6 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 石墨烯-ZnO薄膜制备及其性能研究 | 第43-50页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 石墨烯-ZnO薄膜的制备 | 第43-49页 |
| 4.2.1 实验过程 | 第43-44页 |
| 4.2.2 结构性能分析 | 第44-46页 |
| 4.2.3 形貌分析 | 第46-47页 |
| 4.2.4 石墨烯-ZnO薄膜材料光电性能分析 | 第47-49页 |
| 4.3 本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 石墨烯-ZnO薄膜的掺杂 | 第50-59页 |
| 5.1 引言 | 第50页 |
| 5.2 不同掺杂剂对石墨烯-ZnO薄膜进行掺杂 | 第50-58页 |
| 5.2.1 实验过程 | 第50-51页 |
| 5.2.2 结构分析 | 第51-54页 |
| 5.2.3 形貌分析 | 第54-55页 |
| 5.2.4 光学分析 | 第55-56页 |
| 5.2.5 电学分析 | 第56-58页 |
| 5.3 本章小结 | 第58-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-69页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |