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SiC纳米线的制备与性能研究

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-6页
目录第7-10页
第一章 绪论第10-26页
    1.1 纳米材料第10-15页
        1.1.1 纳米材料的基本概念第10页
        1.1.2 纳米结构单元第10-11页
        1.1.3 纳米材料的基本理论第11-12页
        1.1.4 纳米材料的特性第12-13页
        1.1.5 纳米材料的制备方法第13-14页
        1.1.6 纳米材料的应用第14-15页
    1.2 SiC 半导体材料第15-21页
        1.2.1 半导体材料的基本概念第15-16页
        1.2.2 SiC 半导体材料的结构第16-19页
        1.2.3 SiC 半导体材料的性质和应用第19-21页
    1.3 SiC 纳米线第21-25页
        1.3.1 SiC 纳米线的性能及其应用第21-22页
        1.3.2 SiC 纳米线的制备方法第22-25页
    1.4 本论文选题背景及研究内容第25-26页
第二章 实验方法第26-35页
    2.1 SiC 纳米线的生长机制第26-28页
        2.1.1 Si/SiO_2 纳米线的“氧协助团簇-固体”生长机制第26-27页
        2.1.2 SiC 纳米线的生长机制第27-28页
    2.2 SiC 纳米线的制备方法第28-31页
        2.2.1 实验装置第28-29页
        2.2.2 竖直坩埚合成工艺第29-30页
        2.2.3 水平坩埚合成工艺第30-31页
    2.3 SiC 纳米线的表征方法第31-35页
        2.3.1 X 射线衍射(XRD)第31-32页
        2.3.2 扫描电子显微镜(SEM)第32-33页
        2.3.3 透射电子显微镜(TEM)第33-35页
第三章 竖直坩埚合成工艺制备SiC 纳米线第35-45页
    3.1 实验过程第35-36页
        3.1.1 实验设备、材料第35页
        3.1.2 实验步骤第35-36页
    3.2 实验结果与分析第36-42页
        3.2.1 X 射线衍射分析(XRD)第37-39页
        3.2.2 扫描电子显微镜分析(SEM)第39-40页
        3.2.3 能谱分析(EDX)第40页
        3.2.4 透射电子显微镜分析(TEM)第40-41页
        3.2.5 SiC 纳米线的生长过程分析第41-42页
    3.3 反应温度分析第42-43页
    3.4 本章小结第43-45页
第四章 水平坩埚合成工艺制备SiC 纳米线第45-60页
    4.1 实验过程第45-48页
        4.1.1 实验设备、材料第45页
        4.1.2 实验步骤第45-46页
        4.1.3 实验分类(根据反应原料不同)第46-48页
    4.2 实验结果与分析第48-55页
        4.2.1 X 射线衍射分析(XRD)第48-50页
        4.2.2 SEM 和EDX 分析第50-52页
        4.2.3 透射电子显微镜分析(TEM)第52-54页
        4.2.4 SiC 纳米线的生长过程分析第54-55页
    4.3 反应中生成的其他产物第55-59页
        4.3.1 碳纳米管(CNT)第55-56页
        4.3.2 硅纳米线(Si)第56-59页
    4.4 本章小结第59-60页
第五章 SiC 纳米线的性能研究第60-67页
    5.1 Zeta 电位第60-61页
    5.2 SIC 纳米线电学特性第61-66页
        5.2.1 微电极MEMS 器件的制备第61-62页
        5.2.2 介电泳方法搭载SiC 纳米线第62-63页
        5.2.3 SEM 观察微电极上的SiC 纳米线第63-64页
        5.2.4 电学性能测试第64-66页
    5.3 本章小结第66-67页
第六章 全文总结与展望第67-69页
    6.1 全文总结第67-68页
    6.2 创新点第68页
    6.3 展望第68-69页
参考文献第69-74页
致谢第74-75页
攻读硕士学位期间已发表或录用的论文第75-77页

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