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高功率半导体激光器微通道热沉研究

中文摘要第3-4页
英文摘要第4页
目 录第5-7页
第一章 绪论第7-11页
    1.1 高功率半导体激光器的发展与应用第7-9页
    1.2 本文研究的目的和意义第9-10页
    1.3 国内外研究现状及主要研究内容第10-11页
第二章 半导体激光器的热效应第11-32页
    2.1 二极管激光器的热源分布第11-14页
    2.2 热传导方程第14-16页
    2.3 热沉的热阻第16页
    2.4 热参数第16-20页
    2.5 二极管激光器的连续运行和脉冲运行的比较第20-21页
    2.6 二极管激光器连续运行的热特性第21-23页
    2.7 二极管激光器脉冲运行的热特性第23-29页
    2.8 二极管激光器列阵的热特性第29-32页
第三章 微通道热沉的工艺制作过程第32-44页
    3.1 微通道致冷器简介第32-36页
        3.1.1 微通道冷却热沉的功能第32-33页
        3.1.2 国外MCC的设计与制造第33-36页
    3.2 本文微通道热沉的工艺制作过程第36-44页
        3.2.1 硅片加工制作第36页
        3.2.2 Si_3N_4掩膜制作第36-37页
        3.2.3 光刻版设计及光刻技术第37-40页
        3.2.4 微通道制作第40-41页
        3.2.5 硼硅玻璃加工制作第41页
        3.2.6 封装第41-42页
        3.2.7 切割第42页
        3.2.8 欧姆接触及管芯(厘米条)焊接第42页
        3.2.9 循环水装置制作第42-43页
        3.2.10 最后装置图第43-44页
第四章 微通道热沉热阻的测定第44-47页
第五章 结论第47-48页
致 谢第48-49页
参考文献第49-50页

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