超高密度瓦记录关键问题研究与系统设计
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-27页 |
| 1.1 引言 | 第10-12页 |
| 1.2 磁记录 | 第12-18页 |
| 1.3 超高密度磁记录面临的问题 | 第18-20页 |
| 1.4 超高密度瓦记录 | 第20-25页 |
| 1.5 选题依据与研究内容 | 第25-27页 |
| 2 微磁学理论基础及建模 | 第27-51页 |
| 2.1 微磁学理论基础 | 第27-30页 |
| 2.2 三维有限元与微磁学 | 第30-33页 |
| 2.3 静磁场对翻转场分布的影响 | 第33-37页 |
| 2.4 斯通纳-沃法斯模型 | 第37-40页 |
| 2.5 微磁学的数值化计算方法 | 第40-44页 |
| 2.6 微磁学的计算规模 | 第44-49页 |
| 2.7 本章小结 | 第49-51页 |
| 3 超高密度瓦记录面临的关键问题 | 第51-100页 |
| 3.1 有效写场与侧写场梯度 | 第53-57页 |
| 3.2 误码率 | 第57-59页 |
| 3.3 瓦磁头写角 | 第59-76页 |
| 3.4 圆角效应 | 第76-81页 |
| 3.5 斜交角效应 | 第81-88页 |
| 3.6 位元之间的静磁相互作用 | 第88-92页 |
| 3.7 磁头擦除带宽EBW | 第92-97页 |
| 3.8 本章小结 | 第97-100页 |
| 4 超高密度瓦记录系统设计 | 第100-120页 |
| 4.1 比特图案介质BPM | 第101-106页 |
| 4.2 瓦磁头设计 | 第106-114页 |
| 4.3 热辅助瓦记录 | 第114-118页 |
| 4.4 本章小结 | 第118-120页 |
| 5 瓦记录与ECC技术 | 第120-135页 |
| 5.1 ECC介质 | 第120-127页 |
| 5.2 ECC矫顽力的角相关性 | 第127-128页 |
| 5.3 瓦记录与ECC技术 | 第128-134页 |
| 5.4 本章小结 | 第134-135页 |
| 6 总结与展望 | 第135-139页 |
| 致谢 | 第139-140页 |
| 参考文献 | 第140-148页 |
| 附录1 攻读博士学位期间发表的学术论文目录 | 第148页 |
