摘要 | 第3-6页 |
ABSTRACT | 第6-9页 |
第一章 文献综述 | 第13-29页 |
1.1 前言 | 第13-14页 |
1.2 铜基纳米材料应用 | 第14-18页 |
1.2.1 铜纳米材料电学性质的应用 | 第14-15页 |
1.2.2 纳米材料力学性质的应用 | 第15页 |
1.2.3 润滑油添加剂 | 第15-16页 |
1.2.4 催化领域的应用 | 第16-17页 |
1.2.5 抗菌材料 | 第17-18页 |
1.2.6 陶瓷制备中的应用 | 第18页 |
1.3 纳米材料的制备方法 | 第18-26页 |
1.3.1 化学还原法 | 第18-21页 |
1.3.2 微乳液法 | 第21-22页 |
1.3.3 溶剂热合成法 | 第22-23页 |
1.3.4 模板法 | 第23-26页 |
1.4 研究背景及意义 | 第26-29页 |
第二章 实验部分 | 第29-31页 |
2.1 实验原料及仪器 | 第29页 |
2.2 样品表征 | 第29-31页 |
2.2.1 X-射线衍射分析(XRD,X-ray Diffraction) | 第29-30页 |
2.2.2 扫描电子显微镜(SEM,Scanning Electron Microscope) | 第30页 |
2.2.3 透射电子显微镜(TEM,Transmission Electron Microscope) | 第30页 |
2.2.4 N_2吸脱附(N_2 adsorption-desorption) | 第30-31页 |
第三章 二乙醇胺液相还原法制备纳米铜 | 第31-37页 |
3.1 前言 | 第31页 |
3.2 制备方法 | 第31页 |
3.3 反应温度的影响 | 第31-33页 |
3.4 修饰剂十六胺的影响 | 第33-35页 |
3.5 小结 | 第35-37页 |
第四章 溶剂热法制备铜线的研究 | 第37-47页 |
4.1 前言 | 第37页 |
4.2 十六胺对产物的影响 | 第37-39页 |
4.2.1 制备方法 | 第37页 |
4.2.2 HDA溶解温度的影响 | 第37-38页 |
4.2.3 HDA用量的影响 | 第38-39页 |
4.3 Vc用量的影响 | 第39-41页 |
4.4 反应时间对产物的影响 | 第41-43页 |
4.5 溶剂对产物的影响 | 第43-46页 |
4.5.1 蒸馏水做溶剂 | 第43-44页 |
4.5.2 乙醇做溶剂 | 第44-46页 |
4.6 小结 | 第46-47页 |
第五章 模板法制备氧化亚铜纳米线段的研究 | 第47-63页 |
5.1 前言 | 第47页 |
5.2 样品的制备 | 第47-49页 |
5.2.1 制备方法 | 第47-48页 |
5.2.2 浓度的影响 | 第48页 |
5.2.3 分散方式的影响 | 第48-49页 |
5.2.4 浸渍时间的影响 | 第49页 |
5.3 洗涤的影响 | 第49-54页 |
5.3.1 制备方法 | 第49-50页 |
5.3.2 N_2吸脱附表征 | 第50-51页 |
5.3.3 XRD表征 | 第51-53页 |
5.3.4 TEM表征 | 第53-54页 |
5.4 分散方式和浸渍时间的影响 | 第54-56页 |
5.5 反复浸渍对实验结果的影响 | 第56-58页 |
5.5.1 制备方法 | 第56-57页 |
5.5.2 XRD表征 | 第57页 |
5.5.3 TEM表征 | 第57-58页 |
5.6 溶剂的影响 | 第58-61页 |
5.6.1 二乙醇胺做溶剂 | 第58-59页 |
5.6.2 乙醇水溶液(V_(乙醇):V_水=1:1)做溶剂 | 第59-61页 |
5.7 小结 | 第61-63页 |
第六章 结论及建议 | 第63-65页 |
6.1 结论 | 第63-64页 |
6.2 建议 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-73页 |
致谢 | 第73-74页 |
攻读学位期间发表论文情况 | 第74页 |