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纳米铜和氧化亚铜纳米线制备的研究

摘要第3-6页
ABSTRACT第6-9页
第一章 文献综述第13-29页
    1.1 前言第13-14页
    1.2 铜基纳米材料应用第14-18页
        1.2.1 铜纳米材料电学性质的应用第14-15页
        1.2.2 纳米材料力学性质的应用第15页
        1.2.3 润滑油添加剂第15-16页
        1.2.4 催化领域的应用第16-17页
        1.2.5 抗菌材料第17-18页
        1.2.6 陶瓷制备中的应用第18页
    1.3 纳米材料的制备方法第18-26页
        1.3.1 化学还原法第18-21页
        1.3.2 微乳液法第21-22页
        1.3.3 溶剂热合成法第22-23页
        1.3.4 模板法第23-26页
    1.4 研究背景及意义第26-29页
第二章 实验部分第29-31页
    2.1 实验原料及仪器第29页
    2.2 样品表征第29-31页
        2.2.1 X-射线衍射分析(XRD,X-ray Diffraction)第29-30页
        2.2.2 扫描电子显微镜(SEM,Scanning Electron Microscope)第30页
        2.2.3 透射电子显微镜(TEM,Transmission Electron Microscope)第30页
        2.2.4 N_2吸脱附(N_2 adsorption-desorption)第30-31页
第三章 二乙醇胺液相还原法制备纳米铜第31-37页
    3.1 前言第31页
    3.2 制备方法第31页
    3.3 反应温度的影响第31-33页
    3.4 修饰剂十六胺的影响第33-35页
    3.5 小结第35-37页
第四章 溶剂热法制备铜线的研究第37-47页
    4.1 前言第37页
    4.2 十六胺对产物的影响第37-39页
        4.2.1 制备方法第37页
        4.2.2 HDA溶解温度的影响第37-38页
        4.2.3 HDA用量的影响第38-39页
    4.3 Vc用量的影响第39-41页
    4.4 反应时间对产物的影响第41-43页
    4.5 溶剂对产物的影响第43-46页
        4.5.1 蒸馏水做溶剂第43-44页
        4.5.2 乙醇做溶剂第44-46页
    4.6 小结第46-47页
第五章 模板法制备氧化亚铜纳米线段的研究第47-63页
    5.1 前言第47页
    5.2 样品的制备第47-49页
        5.2.1 制备方法第47-48页
        5.2.2 浓度的影响第48页
        5.2.3 分散方式的影响第48-49页
        5.2.4 浸渍时间的影响第49页
    5.3 洗涤的影响第49-54页
        5.3.1 制备方法第49-50页
        5.3.2 N_2吸脱附表征第50-51页
        5.3.3 XRD表征第51-53页
        5.3.4 TEM表征第53-54页
    5.4 分散方式和浸渍时间的影响第54-56页
    5.5 反复浸渍对实验结果的影响第56-58页
        5.5.1 制备方法第56-57页
        5.5.2 XRD表征第57页
        5.5.3 TEM表征第57-58页
    5.6 溶剂的影响第58-61页
        5.6.1 二乙醇胺做溶剂第58-59页
        5.6.2 乙醇水溶液(V_(乙醇):V_水=1:1)做溶剂第59-61页
    5.7 小结第61-63页
第六章 结论及建议第63-65页
    6.1 结论第63-64页
    6.2 建议第64-65页
参考文献第65-73页
致谢第73-74页
攻读学位期间发表论文情况第74页

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