| 摘要 | 第9-11页 |
| Abstract | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第13-26页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 氧化铁薄膜的研究进展及其制备方法 | 第13-17页 |
| 1.2.1 氧化铁薄膜的研究进展 | 第13-15页 |
| 1.2.2 氧化铁薄膜的制备方法 | 第15-17页 |
| 1.3 原子层沉积技术概述 | 第17-20页 |
| 1.3.1 沉积原理 | 第17-19页 |
| 1.3.2 材料体系 | 第19-20页 |
| 1.4 原子层沉积技术在磁性金属氧化物上的应用 | 第20-23页 |
| 1.4.1 原子层沉积技术制备磁性金属氧化物 | 第20-21页 |
| 1.4.2 原子层沉积技术的保形性研究 | 第21-23页 |
| 1.5 量子化学计算在原子层沉积上的应用 | 第23-24页 |
| 1.6 课题研究的目的和内容 | 第24-26页 |
| 第二章 实验与表征方法 | 第26-33页 |
| 2.1 技术路线 | 第26页 |
| 2.2 主要试剂及仪器 | 第26-27页 |
| 2.3 原子层沉积设备 | 第27-29页 |
| 2.4 样品制备工艺 | 第29-31页 |
| 2.4.1 基片清洗 | 第29-30页 |
| 2.4.2 沉积工艺 | 第30-31页 |
| 2.5 表征与测试方法 | 第31-33页 |
| 2.5.1 厚度测试 | 第31页 |
| 2.5.2 晶体结构分析 | 第31-32页 |
| 2.5.3 形貌与能谱分析 | 第32-33页 |
| 第三章 氧化铁薄膜的原子层沉积工艺研究 | 第33-58页 |
| 3.1 沉积氧化铁薄膜的基本工艺 | 第33-35页 |
| 3.1.1 沉积氧化铁薄膜的工艺参数 | 第33-34页 |
| 3.1.2 沉积基底 | 第34页 |
| 3.1.3 沉积模式 | 第34-35页 |
| 3.2 基底状态对氧化铁薄膜沉积效果的影响 | 第35-44页 |
| 3.2.1 表面与形貌表征 | 第35-43页 |
| 3.2.2 X射线衍射结果分析（XRD） | 第43-44页 |
| 3.3 沉积模式对氧化铁薄膜制备的影响 | 第44-51页 |
| 3.3.1 表面与形貌表征 | 第44-50页 |
| 3.3.2 X射线衍射结果分析（XRD） | 第50-51页 |
| 3.4 沉积薄膜的化学组成分析 | 第51-53页 |
| 3.5 氧化铁薄膜的原子层沉积速率 | 第53-56页 |
| 3.6 本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 氧化铁薄膜原子层沉积机理的密度泛函理论研究 | 第58-70页 |
| 4.1 计算方法与计算模型 | 第58-62页 |
| 4.1.1 建立基元反应步骤 | 第58-60页 |
| 4.1.2 计算方法 | 第60-61页 |
| 4.1.3 建立计算模型 | 第61-62页 |
| 4.2 各基元反应的密度泛函计算结果 | 第62-69页 |
| 4.2.1 臭氧分子在硅原子表面的吸附过程 | 第62-63页 |
| 4.2.2 二茂铁分子在-OH终止硅片表面的吸附过程 | 第63-64页 |
| 4.2.3 -O-Fe(C5H5)基团与吸附状态O原子的反应 | 第64-67页 |
| 4.2.4 O-Fe=O基团生成Fe_2O_3的反应历程 | 第67-69页 |
| 4.3 本章小结 | 第69-70页 |
| 第五章 结论与展望 | 第70-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第74页 |
