光波导阵列电光扫描系统光利用率的研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 符号对照表 | 第11-13页 |
| 缩略词 | 第13-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-20页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第16-17页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第17-18页 |
| 1.3 研究内容与结构安排 | 第18-20页 |
| 第二章 光波导阵列电光扫描系统光利用率分析 | 第20-30页 |
| 2.1 光波导阵列电光扫描系统的工作原理 | 第20-21页 |
| 2.2 光波导阵列电光扫描系统的光利用率 | 第21-24页 |
| 2.2.1 光波导阵列的耦合效率 | 第21-22页 |
| 2.2.2 光波导阵列芯片的光利用率 | 第22-23页 |
| 2.2.3 扫描系统的透过率与光利用率 | 第23-24页 |
| 2.3 扫描系统光利用率的实验研究 | 第24-27页 |
| 2.3.1 实验系统 | 第24页 |
| 2.3.2 测量扫描系统光利用率的方法 | 第24-26页 |
| 2.3.3 实验测量结果及分析 | 第26-27页 |
| 2.4 本章小结 | 第27-30页 |
| 第三章 单模光纤-光波导阵列耦合研究 | 第30-40页 |
| 3.1 单模光纤-光波导阵列的耦合损耗 | 第30-32页 |
| 3.1.1 模场失配损耗 | 第30页 |
| 3.1.2 对准偏差损耗 | 第30-31页 |
| 3.1.3 菲涅尔反射损耗 | 第31-32页 |
| 3.2 光耦合方式的分类 | 第32-33页 |
| 3.2.1 直接耦合系统 | 第32-33页 |
| 3.2.2 间接耦合系统 | 第33页 |
| 3.3 模拟研究耦合效率的方法 | 第33-36页 |
| 3.3.1 模拟软件简介 | 第33-34页 |
| 3.3.2 基本耦合模型 | 第34-35页 |
| 3.3.3 模型耦合效率的分析 | 第35-36页 |
| 3.4 提高耦合效率的模拟研究 | 第36-39页 |
| 3.4.1 平端光纤直接耦合 | 第36页 |
| 3.4.2 球面微透镜直接耦合 | 第36-37页 |
| 3.4.3 单球透镜间接耦合 | 第37-38页 |
| 3.4.4 自聚焦透镜耦合 | 第38-39页 |
| 3.5 本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 光波导阵列芯片光利用率的研究 | 第40-56页 |
| 4.1 影响光波导阵列芯片利用率的因素 | 第40-42页 |
| 4.1.1 光波导阵列的模式泄漏 | 第40-41页 |
| 4.1.2 光波导阵列芯片的材料吸收 | 第41-42页 |
| 4.2 芯片参数与其光利用率的研究 | 第42-48页 |
| 4.2.1 第一包层厚度与泄漏损耗的关系 | 第43-44页 |
| 4.2.2 芯层消光系数与吸收损耗的关系 | 第44-45页 |
| 4.2.3 包层消光系数与吸收损耗的关系 | 第45-46页 |
| 4.2.4 衬底消光系数与吸收损耗的关系 | 第46-47页 |
| 4.2.5 各介质消光系数的估计值 | 第47-48页 |
| 4.3 提高光波导阵列芯片光利用率的研究 | 第48-51页 |
| 4.3.1 减少泄漏损耗的方法 | 第48-50页 |
| 4.3.2 减小吸收损耗的方法 | 第50-51页 |
| 4.4 光波导阵列芯片光利用率与扫描光场 | 第51-55页 |
| 4.4.1 隔离层对远场分布的影响 | 第52-53页 |
| 4.4.2 吸收层对远场分布的影响 | 第53-54页 |
| 4.4.3 过渡层对远场分布的影响 | 第54-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 总结与展望 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-62页 |
| 作者简介 | 第62-63页 |
