掩模对Ag超透镜成像质量和像距的影响
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 衍射极限 | 第8-9页 |
| 1.2 表面等离子体 | 第9-11页 |
| 1.3 超分辨光刻成像的研究进展 | 第11-16页 |
| 1.4 掩模材料的选择和制作方法 | 第16-17页 |
| 1.5 软件介绍 | 第17页 |
| 1.6 本文研究的意义及内容安排 | 第17-19页 |
| 2 光栅掩模结构对AG超透镜成像质量和像距影响 | 第19-29页 |
| 2.1 铬膜的光学性质 | 第20-21页 |
| 2.2 器件结构描述及成像原理介绍 | 第21-23页 |
| 2.3 掩模结构对成像质量和像距的影响 | 第23-28页 |
| 2.3.1 掩模的厚度 | 第24-25页 |
| 2.3.2 掩模线宽 | 第25-26页 |
| 2.3.3 掩模轮廓 | 第26-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 3 光栅掩模材料对AG超透镜成像质量的影响 | 第29-35页 |
| 3.1 掩模材料的光学性质 | 第30-31页 |
| 3.2 掩模材料对成像质量的影响 | 第31-34页 |
| 3.3 本章小结 | 第34-35页 |
| 4 总结及展望 | 第35-37页 |
| 4.1 论文创新点与工作总结 | 第35页 |
| 4.2 展望 | 第35-37页 |
| 参考文献 | 第37-42页 |
| 致谢 | 第42-43页 |
| 在校期间的科研成果 | 第43页 |
