| 中文摘要 | 第10-14页 |
| ABSTRACT | 第14-17页 |
| 符号说明 | 第18-19页 |
| 第一章 绪论 | 第19-32页 |
| 1.1 离子束技术简介 | 第19-21页 |
| 1.2 离子束技术的应用 | 第21-25页 |
| 1.3 本文主要研究内容和目标 | 第25-28页 |
| 参考文献 | 第28-32页 |
| 第二章 基本理论及实验方法 | 第32-49页 |
| 2.1 平面波导线光学理论 | 第33-35页 |
| 2.2 离子注入与背散射/沟道分析技术 | 第35-39页 |
| 2.3 质子交换技术 | 第39-41页 |
| 2.4 光刻技术 | 第41-42页 |
| 2.5 波导性能测试方法 | 第42-46页 |
| 2.6 X射线衍射 | 第46-47页 |
| 参考文化 | 第47-49页 |
| 第三章 He离子注入铌酸锂晶体表面Blistering现象和薄膜波导制备研究 | 第49-61页 |
| 3.1 He离子注入铌酸锂晶体表面Blistering现象 | 第50-54页 |
| 3.2 He离子注入与Cu-Sn键合法制备铌酸锂单晶薄膜 | 第54-60页 |
| 参考文献 | 第60-61页 |
| 第四章 He离子注入金红石和钽酸钾晶体表面Blistering现象 | 第61-76页 |
| 4.1 He离子注入金红石晶体表面Blistering现象 | 第62-69页 |
| 4.2 He离子注入钽酸钾晶体表面Blistering现象 | 第69-75页 |
| 参考文献 | 第75-76页 |
| 第五章 重离子注入铌酸锂晶体离子束增强刻蚀和脊型波导制备研究 | 第76-87页 |
| 5.1 离子注入铌酸锂晶体离子束增强刻蚀性质研究 | 第77-83页 |
| 5.2 离子束增强刻蚀方法制备质子交换铌酸锂脊型波导 | 第83-86页 |
| 参考文献 | 第86-87页 |
| 第六章 氧离子注入Pr：YSO和Mg：SLN晶体波导制备研究 | 第87-100页 |
| 6.1 氧离子注入Pr：YSO晶体平面波导的制备 | 第88-93页 |
| 6.2 氧离子注入Pr：YSO晶体条形波导的制备 | 第93-95页 |
| 6.3 氧离子注入Mg：SLN晶体平面波导的制备 | 第95-99页 |
| 参考文献 | 第99-100页 |
| 第七章 总结 | 第100-104页 |
| 7.1 主要研究结果 | 第101-103页 |
| 7.2 主要创新点 | 第103-104页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及获得的奖励 | 第104-105页 |
| 致谢 | 第105-106页 |
| 附外文论文 | 第106-116页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第116页 |
