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8.5um量子阱红外探测器的光学天线优化

摘要第5-6页
Abstract第6页
第一章 绪论第9-22页
    1.1 红外探测技术发展简介第9-10页
    1.2 量子阱红外探测器第10-12页
        1.2.1 电子类QWIP第10-12页
        1.2.2 空穴类QWIP第12页
    1.3 QWP能级结构设计第12-15页
        1.3.1 K-P模型能级计算理论第13-14页
        1.3.2 量子干涉模型第14页
        1.3.3 传输矩阵法第14-15页
    1.4 量子阱红外探测器与HgCdTe红外探测器对比第15-16页
    1.5 QWIP光耦合技术发展第16-20页
        1.5.1 45~0 红外感应截面法第16页
        1.5.2 光栅耦合法第16-19页
        1.5.3 无序光栅耦合法第19页
        1.5.4 波纹光耦合法第19-20页
    1.6 新型光学天线光耦合法原理及优点第20-22页
第二章 二维光学天线理论分析方法第22-28页
    2.1 有限时域差分方法(FDTD)第22-23页
    2.2 傅里叶模型法(FMM)第23-27页
    2.3 多层多级程序处理法MMP第27-28页
第三章 光学天线的设计与优化第28-49页
    3.1 天线周期理论计算及仿真第28-32页
    3.2 空气孔结构优化设计第32-39页
        3.2.1 空气孔排列方式选择第32-34页
        3.2.2 空气孔半径优化第34-36页
        3.2.3 孔径形状设计优化第36-39页
    3.3 天线厚度优化第39-41页
        3.3.1 透射曲线分析第39-40页
        3.3.2 电场增强分析第40-41页
    3.4 光学天线材料选择第41-43页
    3.5 天线保护层影响研究第43-45页
    3.6 二维金属柱光学天线第45-48页
    3.7 小结第48-49页
第四章 二维光学天线制作流程研究第49-61页
    4.1 工艺流程简介第49-50页
    4.2 金属镀膜方法第50-52页
    4.3 光刻技术第52-56页
        4.3.1 电子束光刻技术简述第52-54页
        4.3.2 双面对准光刻技术第54-55页
        4.3.3 步进光刻法第55-56页
    4.4 制备过程详解第56-59页
    4.5 光学天线制备工艺细节优化第59-61页
第五章 总结及研究展望第61-63页
致谢第63-64页
参考文献第64-67页

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