| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 红外探测技术发展简介 | 第9-10页 |
| 1.2 量子阱红外探测器 | 第10-12页 |
| 1.2.1 电子类QWIP | 第10-12页 |
| 1.2.2 空穴类QWIP | 第12页 |
| 1.3 QWP能级结构设计 | 第12-15页 |
| 1.3.1 K-P模型能级计算理论 | 第13-14页 |
| 1.3.2 量子干涉模型 | 第14页 |
| 1.3.3 传输矩阵法 | 第14-15页 |
| 1.4 量子阱红外探测器与HgCdTe红外探测器对比 | 第15-16页 |
| 1.5 QWIP光耦合技术发展 | 第16-20页 |
| 1.5.1 45~0 红外感应截面法 | 第16页 |
| 1.5.2 光栅耦合法 | 第16-19页 |
| 1.5.3 无序光栅耦合法 | 第19页 |
| 1.5.4 波纹光耦合法 | 第19-20页 |
| 1.6 新型光学天线光耦合法原理及优点 | 第20-22页 |
| 第二章 二维光学天线理论分析方法 | 第22-28页 |
| 2.1 有限时域差分方法(FDTD) | 第22-23页 |
| 2.2 傅里叶模型法(FMM) | 第23-27页 |
| 2.3 多层多级程序处理法MMP | 第27-28页 |
| 第三章 光学天线的设计与优化 | 第28-49页 |
| 3.1 天线周期理论计算及仿真 | 第28-32页 |
| 3.2 空气孔结构优化设计 | 第32-39页 |
| 3.2.1 空气孔排列方式选择 | 第32-34页 |
| 3.2.2 空气孔半径优化 | 第34-36页 |
| 3.2.3 孔径形状设计优化 | 第36-39页 |
| 3.3 天线厚度优化 | 第39-41页 |
| 3.3.1 透射曲线分析 | 第39-40页 |
| 3.3.2 电场增强分析 | 第40-41页 |
| 3.4 光学天线材料选择 | 第41-43页 |
| 3.5 天线保护层影响研究 | 第43-45页 |
| 3.6 二维金属柱光学天线 | 第45-48页 |
| 3.7 小结 | 第48-49页 |
| 第四章 二维光学天线制作流程研究 | 第49-61页 |
| 4.1 工艺流程简介 | 第49-50页 |
| 4.2 金属镀膜方法 | 第50-52页 |
| 4.3 光刻技术 | 第52-56页 |
| 4.3.1 电子束光刻技术简述 | 第52-54页 |
| 4.3.2 双面对准光刻技术 | 第54-55页 |
| 4.3.3 步进光刻法 | 第55-56页 |
| 4.4 制备过程详解 | 第56-59页 |
| 4.5 光学天线制备工艺细节优化 | 第59-61页 |
| 第五章 总结及研究展望 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |