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基于主成分分析的多元分段模型预测集成电路晶圆良率的应用

摘要第6-7页
ABSTRACT第7页
第一章 引言第9-11页
第二章 集成电路晶圆良率模型介绍第11-17页
    2.1 集成电路生产工艺简介第11-12页
    2.2 常用的良率预测模型第12-15页
    2.3 电性测试数据介绍第15-17页
第三章 Logistic回归模型预测良率第17-25页
    3.1 Logistic回归第17-18页
    3.2 最小二乘估计第18-19页
    3.3 基于Logistic回归的良率模型建立第19-25页
第四章 多元主成分分段函数模型第25-39页
    4.1 通过主成分分析法进行降维第25-27页
    4.2 分段模型假设第27-30页
    4.3 离群值的检验第30-32页
    4.4 使用决策树找寻分段点第32-35页
    4.5 分段式良率模型之建立第35-39页
第五章 总结第39-43页
    5.1 建立多元主成分分段函数模型的实际流程第39-41页
    5.2 建立多元分段函良率模型在实际生产中的意义第41-43页
参考文献第43-45页

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