化学输运法制备钨单晶涂层的微观组织分析
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 前言 | 第10-11页 |
| 1.2 钨单晶涂层的制备 | 第11-12页 |
| 1.2.1 熔炼法 | 第11页 |
| 1.2.2 化学输运法 | 第11-12页 |
| 1.3 单晶微观组织研究现状 | 第12-19页 |
| 1.3.1 外延单晶中常见的缺陷 | 第13-14页 |
| 1.3.2 单晶材料微观组织研究 | 第14-19页 |
| 1.4 单晶生长形貌学 | 第19-20页 |
| 1.5 研究的背景、意义及主要内容 | 第20-22页 |
| 第2章 钨单晶涂层制备与缺陷分析技术 | 第22-38页 |
| 2.1 钨单晶涂层的制备与基本性质 | 第22-26页 |
| 2.1.1 钨单晶涂层制备的基本原理 | 第22页 |
| 2.1.2 钨单晶涂层制备实验 | 第22-23页 |
| 2.1.3 钨单晶涂层制备工艺参数 | 第23-24页 |
| 2.1.4 钨单晶涂层基本性质 | 第24-26页 |
| 2.2 钨单晶涂层的微观组织分析 | 第26-32页 |
| 2.2.1 钨单晶涂层蚀坑技术 | 第26-31页 |
| 2.2.2 钨单晶涂层EBSD微观表征 | 第31-32页 |
| 2.3 常规高分辨X射线衍射技术 | 第32-35页 |
| 2.3.1 常规高分辨X射线衍射仪简介 | 第32-33页 |
| 2.3.2 常规高分辨X射线衍射仪的物理操作过程 | 第33-34页 |
| 2.3.3 X射线摇摆曲线的测定及分析 | 第34-35页 |
| 2.4 同步辐射高能X射线衍射技术 | 第35-37页 |
| 2.4.1 同步辐射简介 | 第35-36页 |
| 2.4.2 实验过程与数据分析方法 | 第36-37页 |
| 2.5 本章小结 | 第37-38页 |
| 第3章 化学输运法制备钨单晶涂层的生长习性 | 第38-50页 |
| 3.1 钨单晶涂层宏观生长形貌 | 第38-42页 |
| 3.2 钨单晶涂层位错分析 | 第42-47页 |
| 3.3 钨单晶涂层缺陷形成因素分析 | 第47-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 钨单晶涂层表面异常生长 | 第50-58页 |
| 4.1 表面生长丘 | 第50-54页 |
| 4.2 表面不规则突起 | 第54页 |
| 4.3 表面簇状结构 | 第54-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 攻读学位期间发表论文与研究成果清单 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
