摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第12-32页 |
1.1 引言 | 第12页 |
1.2 高分子稀土复合物 | 第12-19页 |
1.2.1 稀土元素 | 第12-13页 |
1.2.2 高分子稀土材料的分类 | 第13-18页 |
1.2.3 稀土配合物的发光机理及发光特点 | 第18页 |
1.2.4 高分子稀土材料的应用 | 第18-19页 |
1.3 高分子金属复合物界面复合的概述 | 第19-30页 |
1.3.1 层层组装技术简介 | 第19-21页 |
1.3.2 高分子金属复合薄膜的制备 | 第21-29页 |
1.3.3 高分子金属复合薄膜的应用 | 第29-30页 |
1.4 本论文的主要研究内容和研究意义 | 第30-32页 |
第二章 高分子稀土复合物的制备与表征 | 第32-43页 |
2.1 引言 | 第32页 |
2.2 实验部分 | 第32-34页 |
2.2.1 实验主要原料及分子式 | 第32-33页 |
2.2.2 实验所用仪器 | 第33页 |
2.2.3 高分子稀土复合物的制备 | 第33-34页 |
2.3 表征与测试 | 第34-35页 |
2.3.1 纳米粒度与电位分析仪 | 第34页 |
2.3.2 广角动静态激光光散射仪 | 第34页 |
2.3.3 紫外可见分光光度计 | 第34-35页 |
2.3.4 傅里叶红外光谱 | 第35页 |
2.4 结果与讨论 | 第35-42页 |
2.4.1 制备均相稳定的PAA-Ce复合物的调控因素 | 第35-38页 |
2.4.2 不同方式制备pH=6、摩尔比 10:1 的PAA-Ce复合物 | 第38-41页 |
2.4.3 PAA-Ce复合物的相互作用研究 | 第41-42页 |
2.5 本章小结 | 第42-43页 |
第三章 高分子稀土复合薄膜的制备及其荧光性能 | 第43-55页 |
3.1 引言 | 第43页 |
3.2 实验部分 | 第43-45页 |
3.2.1 实验主要原料及分子式 | 第43-44页 |
3.2.2 实验所用仪器 | 第44页 |
3.2.3 高分子稀土复合物界面复合薄膜的制备 | 第44-45页 |
3.3 表征与测试 | 第45-47页 |
3.3.1 紫外可见光谱 | 第45-46页 |
3.3.2 反射光谱 | 第46页 |
3.3.3 原子力显微镜 | 第46页 |
3.3.4 傅里叶红外光谱 | 第46页 |
3.3.5 光电子能谱 | 第46页 |
3.3.6 元素分析 | 第46-47页 |
3.3.7 荧光光谱 | 第47页 |
3.4 结果与讨论 | 第47-54页 |
3.4.1 PDDA溶液的pH值影响 | 第47-48页 |
3.4.2 三种方式制备得到的复合物溶液制备薄膜 | 第48-50页 |
3.4.3 薄膜相互作用的研究 | 第50-52页 |
3.4.4 薄膜的荧光性能 | 第52-54页 |
3.5 本章小结 | 第54-55页 |
第四章 薄膜生长模式及其动态过程的研究 | 第55-67页 |
4.1 引言 | 第55页 |
4.2 实验部分 | 第55-57页 |
4.2.1 实验主要原料 | 第55页 |
4.2.2 实验所用仪器 | 第55-56页 |
4.2.3 pH=6、不同PDDA浓度制备薄膜 | 第56页 |
4.2.4 QCM监测薄膜的生长过程 | 第56页 |
4.2.5 薄膜的后处理 | 第56-57页 |
4.3 表征与测试 | 第57-58页 |
4.3.1 石英微晶天平 | 第57页 |
4.3.2 紫外可见光谱 | 第57页 |
4.3.3 反射光谱 | 第57页 |
4.3.4 原子力显微镜 | 第57页 |
4.3.5 傅里叶红外光谱 | 第57-58页 |
4.3.6 荧光光谱 | 第58页 |
4.4 结果与讨论 | 第58-66页 |
4.4.1 PDDA浓度对成膜的影响 | 第58-59页 |
4.4.2 QCM监测薄膜的生长过程 | 第59-61页 |
4.4.3 探究配位与静电作用竞争的动态过程 | 第61-64页 |
4.4.4 薄膜的解离 | 第64-66页 |
4.5 本章小结 | 第66-67页 |
第五章 结论 | 第67-69页 |
参考文献 | 第69-75页 |
攻读学位期间撰写的学术论文目录 | 第75-76页 |
致谢 | 第76页 |