| 中文摘要 | 第10-13页 |
| 英文摘要 | 第13-16页 |
| 第一章 绪论 | 第17-42页 |
| §1.1 纳米材料的发展及其磁性研究 | 第17-26页 |
| §1.1.1 纳米材料的发展概况 | 第17-19页 |
| §1.1.2 纳米材料的磁性研究 | 第19-24页 |
| §1.1.3 磁电耦合的机理以及应用 | 第24-26页 |
| §1.2 电致电阻的研究概况与机理 | 第26-35页 |
| §1.2.1 电致电阻的研究概况 | 第27-29页 |
| §1.2.2 电致电阻的机理 | 第29-33页 |
| §1.2.3 电致电阻与磁性的耦合 | 第33-35页 |
| §1.3 课题的选取及研究意义 | 第35-37页 |
| 参考文献 | 第37-42页 |
| 第二章 样品制备与测试方法 | 第42-59页 |
| §2.1 纳米粉体与薄膜样品的制备与表征 | 第42-54页 |
| §2.1.1 纳米粉末样品的制备 | 第43-46页 |
| §2.1.2 纳米薄膜样品的制备 | 第46-51页 |
| §2.1.3 纳米材料样品的表征 | 第51-54页 |
| §2.2 阻变存储器件的制备与表征 | 第54-58页 |
| §2.2.1 阻变存储器件的制备 | 第54-55页 |
| §2.2.2 阻变特性的表征 | 第55-58页 |
| 参考文献 | 第58-59页 |
| 第三章 电场调控GdFeO_3多晶的磁性 | 第59-75页 |
| §3.1 样品制备与实验方法 | 第60页 |
| §3.2 实验结果和讨论 | 第60-73页 |
| §3.2.1 GdFeO_3多晶样品的结构分析 | 第60-61页 |
| §3.2.2 GdFeO_3多晶样品的磁性 | 第61-65页 |
| §3.2.3 电场对GdFeO_3多晶样品磁性的调控 | 第65-73页 |
| §3.3 本章小结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-75页 |
| 第四章 Ag/TiO_2/Nb:SrTiO_3/Ag器件中电阻与磁性的共调控 | 第75-90页 |
| §4.1 样品制备与实验方法 | 第76-77页 |
| §4.2 实验结果和讨论 | 第77-85页 |
| §4.2.1 TiO_2薄膜的结构分析 | 第77-79页 |
| §4.2.2 TiO_2薄膜室温铁磁性的研究 | 第79-80页 |
| §4.2.3 TiO_2薄膜阻变特性的研究 | 第80-82页 |
| §4.2.4 Ag/TiO_2/Nb:SrTiO_3/Ag器件中电阻与磁性共调控的研究 | 第82-85页 |
| §4.3 本章小结 | 第85-87页 |
| 参考文献 | 第87-90页 |
| 第五章 Ag/HfO_2/Nb: SrTiO_3/Ag器件中电阻与磁性的共调控 | 第90-105页 |
| §5.1 样品制备与实验方法 | 第91-92页 |
| §5.2 实验结果和讨论 | 第92-100页 |
| §5.2.1 HfO_2薄膜的结构分析 | 第92-94页 |
| §5.2.2 HfO_2薄膜室温铁磁性的研究 | 第94-95页 |
| §5.2.3 HfO_2薄膜阻变特性的研究 | 第95-97页 |
| §5.2.4 Ag/HfO_2/Nb:SrTiO_3/Ag器件中电阻与磁性共调控的研究 | 第97-100页 |
| §5.3 本章小结 | 第100-102页 |
| 参考文献 | 第102-105页 |
| 第六章 Ag/Nb_2O_3/Pt器件中电阻与磁性的共调控 | 第105-115页 |
| §6.1 样品制备与实验方法 | 第106-107页 |
| §6.2 实验结果和讨论 | 第107-112页 |
| §6.2.1 Nb_2O_5薄膜的结构分析 | 第107-109页 |
| §6.2.2 Nb_2O_5薄膜室温铁磁性的研究 | 第109-110页 |
| §6.2.3 Ag/Nb_2O_5/Pt器件阻变特性的研究 | 第110-111页 |
| §6.2.4 Ag/Nb_2O_5/Pt器件中电阻与磁性共调控的研究 | 第111-112页 |
| §6.3 本章小结 | 第112-113页 |
| 参考文献 | 第113-115页 |
| 第七章 电场调控HfO_2薄膜磁性的研究 | 第115-137页 |
| §7.1 样品制备与实验方法 | 第116-117页 |
| §7.2 实验结果和讨论 | 第117-134页 |
| §7.2.1 HfO_2薄膜的结构分析 | 第117-118页 |
| §7.2.2 HfO_2薄膜室温铁磁性的研究 | 第118-119页 |
| §7.2.3 电场对HfO_2薄膜铁磁性的影响的研究 | 第119-125页 |
| §7.2.4 电场对HfO_2膜铁磁性的影响的XPS研究 | 第125-128页 |
| §7.2.5 电场对TiO_2和TiO_2((掺5%ZnO)薄膜铁磁性的影响的研究 | 第128-134页 |
| §7.3 本章小结 | 第134-135页 |
| 参考文献 | 第135-137页 |
| 总结与展望 | 第137-139页 |
| 致谢 | 第139-141页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第141-143页 |
| 附: 英文论文(一) | 第143-148页 |
| 附: 英文论文(二) | 第148-153页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第153页 |
