| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 气敏传感器概述 | 第11-12页 |
| 1.1.1 气体传感器的发展概况 | 第11-12页 |
| 1.1.2 气体传感器的分类 | 第12页 |
| 1.2 半导体金属氧化物气体传感器的工作原理 | 第12-14页 |
| 1.3 气敏性能测试的指标 | 第14-15页 |
| 1.4 三元金属氧化物纳米材料简介 | 第15-16页 |
| 1.5 三元金属氧化物的制备方法 | 第16-19页 |
| 1.6 气敏材料的表征方法 | 第19-21页 |
| 1.6.1 扫描电子显微镜 | 第19-20页 |
| 1.6.2 透射电子显微镜 | 第20页 |
| 1.6.3 X射线衍射 | 第20页 |
| 1.6.4 X射线电子能谱 | 第20页 |
| 1.6.5 拉曼光谱 | 第20-21页 |
| 1.6.6 氮气吸附脱附 | 第21页 |
| 1.7 论文研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 Bi_2MoO_6材料的制备和气敏性能研究 | 第22-38页 |
| 2.1 实验部分 | 第22-24页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第22页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第22-23页 |
| 2.1.3 气敏材料的制备 | 第23-24页 |
| 2.2 气体敏感器件的制备与气敏测试 | 第24-26页 |
| 2.2.1 旁热式气敏器件的特性原理 | 第24-25页 |
| 2.2.2 旁热式气体敏感元件的制作 | 第25-26页 |
| 2.2.3 气敏元件的测试 | 第26页 |
| 2.3 形貌特征与分析 | 第26-33页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜分析 | 第26-27页 |
| 2.3.2 X射线衍射图谱分析 | 第27-28页 |
| 2.3.3 X射线光电子能谱分析 | 第28-30页 |
| 2.3.4 比表面积分析(BET) | 第30-31页 |
| 2.3.5 粒度分布分析 | 第31-33页 |
| 2.4 气敏性能测试 | 第33-37页 |
| 2.4.1 不同工作温度对气敏性能的影响 | 第33-34页 |
| 2.4.2 不同气体浓度对气敏性能的影响 | 第34-35页 |
| 2.4.3 响应恢复性能分析 | 第35-36页 |
| 2.4.4 器件在不同气体下的气敏性能 | 第36-37页 |
| 2.5 本章小结 | 第37-38页 |
| 第3章 Bi_2WO_6材料的制备与气敏性能研究 | 第38-59页 |
| 3.1 实验部分 | 第38-40页 |
| 3.1.1 实验试剂 | 第38-39页 |
| 3.1.2 实验仪器 | 第39页 |
| 3.1.3 Bi_2WO_6纳米材料的制备 | 第39-40页 |
| 3.2 Bi_2WO_6-W形貌特征与气敏分析 | 第40-48页 |
| 3.2.1 扫描电镜(SEM)分析 | 第40-41页 |
| 3.2.2 X射线衍射图谱(XRD)分析 | 第41-42页 |
| 3.2.3 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第42-44页 |
| 3.2.4 拉曼光谱(Raman)分析 | 第44-45页 |
| 3.2.5 Bi_2WO_6-W的气敏性能 | 第45-48页 |
| 3.3 Bi_2WO_6-A形貌特征与气敏分析 | 第48-57页 |
| 3.3.1 Bi_2WO_6-A的SEM图片 | 第48-50页 |
| 3.3.2 高分辨率透射电镜(HRTEM)分析 | 第50-51页 |
| 3.3.3 X射线衍射图谱(XRD)分析 | 第51-52页 |
| 3.3.4 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第52-54页 |
| 3.3.5 拉曼光谱(Raman)分析 | 第54页 |
| 3.3.6 Bi_2WO_6-A的气敏性能 | 第54-57页 |
| 3.4 本章小结 | 第57-59页 |
| 第4章 结论与展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 攻读学位期间公开发表论文 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 作者简介 | 第67页 |