飞秒激光抛光碳化硅陶瓷材料的工艺过程研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-15页 |
| ·课题的研究背景和意义 | 第8页 |
| ·碳化硅表面精密加工技术 | 第8-9页 |
| ·ELID磨削技术 | 第8-9页 |
| ·离子束加工 | 第9页 |
| ·等离子体抛光技术 | 第9页 |
| ·磁流变抛光技术 | 第9页 |
| ·飞秒激光抛光技术 | 第9-10页 |
| ·激光抛光技术研究现状 | 第10-13页 |
| ·本课题主要研究内容 | 第13-15页 |
| 第2章 飞秒激光抛光系统平台搭建 | 第15-23页 |
| ·引言 | 第15页 |
| ·抛光系统搭建 | 第15-22页 |
| ·飞秒激光抛光系统组成分析 | 第15页 |
| ·飞秒激光器 | 第15-17页 |
| ·运动控制系统 | 第17-18页 |
| ·光束传输与聚焦系统 | 第18-19页 |
| ·成像单元 | 第19-20页 |
| ·计算机与软件控制单元 | 第20-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 第3章 飞秒激光烧蚀阈值实验及材料去除机理分析 | 第23-37页 |
| ·引言 | 第23页 |
| ·碳化硅烧蚀阈值研究 | 第23-30页 |
| ·烧蚀阈值实验方案设计 | 第23页 |
| ·烧蚀阈值实验原理 | 第23-25页 |
| ·实验试件制备 | 第25页 |
| ·实验系统 | 第25-28页 |
| ·实验设计 | 第28页 |
| ·实验结果及分析 | 第28-30页 |
| ·飞秒激光材料去除机理研究 | 第30-36页 |
| ·实验设计 | 第30-31页 |
| ·实验分析 | 第31-36页 |
| ·材料去除机理分析 | 第36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 抛光工艺实验及抛光机理分析 | 第37-52页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·抛光实验方案设计 | 第37-41页 |
| ·实验材料 | 第37页 |
| ·实验系统 | 第37-38页 |
| ·抛光工艺参数选择 | 第38-41页 |
| ·抛光实验分析 | 第41-48页 |
| ·光斑重叠率对抛光效果的影响 | 第44-45页 |
| ·入射激光功率对抛光效果的影响 | 第45-47页 |
| ·激光入射角对抛光效果的影响 | 第47-48页 |
| ·抛光机理分析 | 第48-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
